Anbieter: Picosun Oy
8 archivierte Beschaffungen
Picosun Oy war in der Vergangenheit ein Lieferant von laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser), industrielle Maschinen und maschinen für allgemeine und besondere Zwecke.
Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter Picosun Oy erwähnt wird
2022-04-22
ALD-System (Technische Universität Dortmund)
Kauf einer Atomlagen-Depositions-Anlage Ansicht der Beschaffung »
Kauf einer Atomlagen-Depositions-Anlage Ansicht der Beschaffung »
2022-04-11
A1042_2021 - QM-IFOX - Atomic Layer Deposition System (Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH (HZB))
Gegenstand dieses Vergabeverfahrens ist die Lieferung eines Atomic Layer Deposition Systems, gemäß technischer Spezifikation und Vergabeunterlagen. Ansicht der Beschaffung »
Gegenstand dieses Vergabeverfahrens ist die Lieferung eines Atomic Layer Deposition Systems, gemäß technischer Spezifikation und Vergabeunterlagen. Ansicht der Beschaffung »
2021-01-27
E_064_287097 StLa-KauAnj Beschichtungsanlage (Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf und Gerätewirtschaft C2)
Beschichtungsanlage. Ansicht der Beschaffung »
Beschichtungsanlage. Ansicht der Beschaffung »
2020-03-25
Beschaffung einer Anlage zur Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition, ALD) zur Beschichtung von metallischem... (Westfälische Wilhelms-Universität Münster)
Beschaffung einer Anlage zur Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition, ALD) zur Beschichtung von metallischem Lithium mit der Funktionalität eines Rolle-zu-Rolle (R2R) — Prozessess. Ansicht der Beschaffung »
Beschaffung einer Anlage zur Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition, ALD) zur Beschichtung von metallischem Lithium mit der Funktionalität eines Rolle-zu-Rolle (R2R) — Prozessess. Ansicht der Beschaffung »
2019-07-12
Vakuumanlage für die Plasma-Atomlagenabscheidung (Technische Universität Dresden, Dezernat Finanzen und Beschaffung, Sachgebiet Zentrale Beschaffung und Anlagenbuchhaltung)
Gegenstand des Vergabeverfahrens ist die Lieferung und betriebsfertige Übergabe einer Vakuumanlage für die Plasma – ALD (Atomlagenabscheidung) einschließlich Schulung. Ansicht der Beschaffung »
Gegenstand des Vergabeverfahrens ist die Lieferung und betriebsfertige Übergabe einer Vakuumanlage für die Plasma – ALD (Atomlagenabscheidung) einschließlich Schulung. Ansicht der Beschaffung »
2018-03-14
Atomic Layer Deposition System (Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung)
System zur Atomlagenabscheidung (ALD) für thermisches ALD auf planaren und porösen und Pulver- Substraten sowie plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung (PEALD) auf planaren Substraten Ansicht der Beschaffung »
System zur Atomlagenabscheidung (ALD) für thermisches ALD auf planaren und porösen und Pulver- Substraten sowie plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung (PEALD) auf planaren Substraten Ansicht der Beschaffung »
2018-01-04
Beschaffung einer Atomic Layer Deposition Anlage (Deutsche Forschungsgemeinschaft e.V., Zentrale Beschaffungsstelle)
Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Zur Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren. Ansicht der Beschaffung »
Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Zur Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren. Ansicht der Beschaffung »
2012-10-23
Atomic Layer Deposition (ALD) System (Karlsruhe Institute of Technology (KIT) - Campus Nord)
The ALD system is supposed to be used by different users of several institutes, so the requirements to the system are diverse, ranging from coating of flat wafers and high aspect ratio nano structures, over complex 3D objects towards microparticulate powders. Regarding ALD materials, the system should be very versatile, allowing for deposition of metals (such as e.g. Pt, Ru, Ag, Ir, Cu,,...), oxides (e.g. SrTiO3, TiO2, SiO2, HfO2, Al2O3, ZrO2, MgO ...) and possibly nitrides (e.g. TiN, TaN, AlN,...) and … Ansicht der Beschaffung »
The ALD system is supposed to be used by different users of several institutes, so the requirements to the system are diverse, ranging from coating of flat wafers and high aspect ratio nano structures, over complex 3D objects towards microparticulate powders. Regarding ALD materials, the system should be very versatile, allowing for deposition of metals (such as e.g. Pt, Ru, Ag, Ir, Cu,,...), oxides (e.g. SrTiO3, TiO2, SiO2, HfO2, Al2O3, ZrO2, MgO ...) and possibly nitrides (e.g. TiN, TaN, AlN,...) and … Ansicht der Beschaffung »