Beschafft werden soll ein Rasterelektronenmikroskop zur Nanoanalytik mit folgenden Spezifikationen: 1 Beschleunigungsspannung von 100 V bis 30 kV 2 Gleichzeitig nutzbare Sekundärelektronendetektoren und Rückstreudetektoren 3 Laterale Auflösung: 1 nm zwischen 1 kV und 30 kV, 1.5 nm unter 1 kV für Proben im magnetfeldfreien Raum 4 Strahlstrom 5 pA – 10 nA mit Stabilität +/- 0.3 % über 1 Stunde 5 60 kipp- und 360 drehbarer Probenteller 6 Schneller Probenwechsel (< 3min) auch für Proben mit Ø > 50 mm 7 EDX-Modul mit Software, Drift-Korrektur und quantitativer Kartierung 8 EBSD inkl. kompletter Software zur Nachbearbeitung, Interpretation und Darstellung der Daten 9 Niedrigvakuum(VP)-Betrieb mit Auflösung < 2 nm (auch < 5 kV) 10 Schnelle Strahlaustastung 11 Benutzerfreundliche Softwaresteuerung, einstellbare Bildspeichertiefe (mindestens 16000 x 16000 Pixel bei höchster Speichertiefe), Windows 10, Netzwerkanschluss 12 Serviceangebote für Wartungen und Reparaturen
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-09-24.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-08-23.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2018-08-23) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Rasterelektronenmikroskope
Referenznummer: ZUK 52/2018 (A 759)
Kurze Beschreibung:
Beschafft werden soll ein Rasterelektronenmikroskop zur Nanoanalytik mit folgenden Spezifikationen:
1 Beschleunigungsspannung von 100 V bis 30 kV
2 Gleichzeitig nutzbare Sekundärelektronendetektoren und Rückstreudetektoren
3 Laterale Auflösung: 1 nm zwischen 1 kV und 30 kV, 1.5 nm unter 1 kV für Proben im magnetfeldfreien Raum
4 Strahlstrom 5 pA – 10 nA mit Stabilität +/- 0.3 % über 1 Stunde
5 60
6 Schneller Probenwechsel (< 3min) auch für Proben mit Ø > 50 mm
7 EDX-Modul mit Software, Drift-Korrektur und quantitativer Kartierung
8 EBSD inkl. kompletter Software zur Nachbearbeitung, Interpretation und Darstellung der Daten
9 Niedrigvakuum(VP)-Betrieb mit Auflösung < 2 nm (auch < 5 kV)
10 Schnelle Strahlaustastung
11 Benutzerfreundliche Softwaresteuerung, einstellbare Bildspeichertiefe (mindestens 16000 x 16000 Pixel bei höchster Speichertiefe), Windows 10, Netzwerkanschluss
12 Serviceangebote für Wartungen und Reparaturen
11 Benutzerfreundliche Softwaresteuerung, einstellbare Bildspeichertiefe (mindestens 16000 x 16000 Pixel bei höchster Speichertiefe), Windows 10, Netzwerkanschluss
12 Serviceangebote für Wartungen und Reparaturen
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Rasterelektronenmikroskope📦 Ort der Leistung
NUTS-Region: Konstanz🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
11 Benutzerfreundliche Softwaresteuerung, einstellbare Bildspeichertiefe (mindestens 16000 x 16000 Pixel bei höchster Speichertiefe), Windows 10, Netzwerkanschluss
12 Serviceangebote für Wartungen und Reparaturen
Zu 1-3: Untersuchungsgegenstände sind Nanopartikel und (hybride) Nanostrukturen, die eine vielfältige Materialpalette abdecken und auf verschiedensten Substraten aufliegen. Die Größen reichen von wenigen bis hin zu mehreren 100 Nanometern in ein-, zwei- oder dreidimensionaler Anordnung. Wegen der Vielzahl der verwendeten Materialien muss ein weiter Bereich von Beschleunigungsspannungen (100 V bis 30 kV) abgedeckt werden sowie verschiedene Detektoren vorhanden sein, um die Probenschädigung möglichst gering zu halten, und verschiedene Kontrastverfahren nutzen zu können. Weiterhin ist eine möglichst hohe Auflösung wichtig, da viele der untersuchten Strukturen sehr klein sind, bzw. es auf möglichst detailgetreue Abbildung ankommt. Hieraus ergibt sich die Spezifikation einer lateralen Auflösung von besser als 1 nm im Spannungsbereich 1 kV bis 30 kV und mindestens 1.5 nm im unteren Spannungsbereich.
Zu 1-3: Untersuchungsgegenstände sind Nanopartikel und (hybride) Nanostrukturen, die eine vielfältige Materialpalette abdecken und auf verschiedensten Substraten aufliegen. Die Größen reichen von wenigen bis hin zu mehreren 100 Nanometern in ein-, zwei- oder dreidimensionaler Anordnung. Wegen der Vielzahl der verwendeten Materialien muss ein weiter Bereich von Beschleunigungsspannungen (100 V bis 30 kV) abgedeckt werden sowie verschiedene Detektoren vorhanden sein, um die Probenschädigung möglichst gering zu halten, und verschiedene Kontrastverfahren nutzen zu können. Weiterhin ist eine möglichst hohe Auflösung wichtig, da viele der untersuchten Strukturen sehr klein sind, bzw. es auf möglichst detailgetreue Abbildung ankommt. Hieraus ergibt sich die Spezifikation einer lateralen Auflösung von besser als 1 nm im Spannungsbereich 1 kV bis 30 kV und mindestens 1.5 nm im unteren Spannungsbereich.
Verschiedene Detektoren (Sekundärelektronendetektoren, Rückstreudetektoren (BE)) müssen im Vakuum und im Niedrigvakuumbetrieb (VP-Modus) und bei variabler Spannung gleichzeitig auslesbar und auf dem Monitor darstellbar sein. Im VP-Modus ist eine laterale Auflösung von 2 nm im Spannungsbereich von 5 kV bis 30 kV nachzuweisen. Zur Untersuchung von Proben aus stark magnetischen Nanopartikeln muss die Auflösung auch ohne Vorhandensein eines Magnetfeldes im Bereich der Probe erreicht werden.
Verschiedene Detektoren (Sekundärelektronendetektoren, Rückstreudetektoren (BE)) müssen im Vakuum und im Niedrigvakuumbetrieb (VP-Modus) und bei variabler Spannung gleichzeitig auslesbar und auf dem Monitor darstellbar sein. Im VP-Modus ist eine laterale Auflösung von 2 nm im Spannungsbereich von 5 kV bis 30 kV nachzuweisen. Zur Untersuchung von Proben aus stark magnetischen Nanopartikeln muss die Auflösung auch ohne Vorhandensein eines Magnetfeldes im Bereich der Probe erreicht werden.
4: Das Gerät soll mit einer thermisch-gestützten Feldemissionskathode ausgerüstet sein, um sowohl die hohe laterale Auflösung als auch hohe Strahlstabilität (besser 0.3 % über eine Stunde) für Langzeitmessungen (z.B. Kartierungen der Elementzusammensetzung und Kristallorientierung) zu gewährleisten. Der Strahlstrombereich soll zwischen 5pA und 10 nA in mindestens 10 logarithmischen Stufen oder kontinuierlich einstellbar sein.
4: Das Gerät soll mit einer thermisch-gestützten Feldemissionskathode ausgerüstet sein, um sowohl die hohe laterale Auflösung als auch hohe Strahlstabilität (besser 0.3 % über eine Stunde) für Langzeitmessungen (z.B. Kartierungen der Elementzusammensetzung und Kristallorientierung) zu gewährleisten. Der Strahlstrombereich soll zwischen 5pA und 10 nA in mindestens 10 logarithmischen Stufen oder kontinuierlich einstellbar sein.
5: Der Probenhalter muss um mindestens 60
6: Der schnelle Probenwechsel (< 3 min) ermöglicht hohen Durchsatz, da es sich um eine Nutzereinrichtung mit bis zu 30 Probenwechseln am Tag handelt. Er sollte durch eine Schleuse für Proben bis zu 50 mm Durchmesser realisiert werden, um Kontamination durch häufige Belüftung zu unterbinden.
6: Der schnelle Probenwechsel (< 3 min) ermöglicht hohen Durchsatz, da es sich um eine Nutzereinrichtung mit bis zu 30 Probenwechseln am Tag handelt. Er sollte durch eine Schleuse für Proben bis zu 50 mm Durchmesser realisiert werden, um Kontamination durch häufige Belüftung zu unterbinden.
7,8: Röntgenanalyse (EDX) und Elektronenrückstreuanalyse (EBSD) mit Drift-Korrektur und Software zur voll automatisierten Datenerfassung und Analyse werden benötigt für die Bestimmung der Elementzusammensetzung, Bestimmung der Struktur-Eigenschaftsbeziehungen von Nanopartikel-Überstrukturen, und Bestimmung der Kristallorientierung der Bestandteile der Nanostrukturen. Beide Funktionen müssen auch im Niedervakuumbetrieb nutzbar sein.
7,8: Röntgenanalyse (EDX) und Elektronenrückstreuanalyse (EBSD) mit Drift-Korrektur und Software zur voll automatisierten Datenerfassung und Analyse werden benötigt für die Bestimmung der Elementzusammensetzung, Bestimmung der Struktur-Eigenschaftsbeziehungen von Nanopartikel-Überstrukturen, und Bestimmung der Kristallorientierung der Bestandteile der Nanostrukturen. Beide Funktionen müssen auch im Niedervakuumbetrieb nutzbar sein.
9: Ein VP-Modus mit Drücken bis hinauf zu 150 Pa wird benötigt, um EDX und EBSD Messungen sowie automatisierte Kartierungen an nichtleitenden Proben vorzunehmen. Alle Kontrastverfahren müssen im VP-Modus nutzbar sein.
10: Die schnelle Strahlaustastung (elektrostatischer beam blanker) dient dazu mit Hilfe einer später nachzurüstenden Lithographie-Einheit nichtleitende Proben in der Niedrigvakuum-Funktion ohne zusätzliche Beschichtung strukturieren zu können.
11: Das Gerät wird von vielen, häufig wechselnden Nutzern bedient. Deswegen ist eine zuverlässige Bedienoberfläche notwendig. Die Bildauflösung muss mindestens 16000 x 16000 Pixel betragen. Die große Menge anfallender Daten muss an die Speicherorte der Nutzer übertragen werden zur langfristigen Speicherung. Zur Einbindung in das Netzwerk der Universität können nur Betriebssysteme ab Windows 10 verwendet werden.
11: Das Gerät wird von vielen, häufig wechselnden Nutzern bedient. Deswegen ist eine zuverlässige Bedienoberfläche notwendig. Die Bildauflösung muss mindestens 16000 x 16000 Pixel betragen. Die große Menge anfallender Daten muss an die Speicherorte der Nutzer übertragen werden zur langfristigen Speicherung. Zur Einbindung in das Netzwerk der Universität können nur Betriebssysteme ab Windows 10 verwendet werden.
12: Wegen der zu erwartenden hohen Auslastung muss das Gerät regelmäßig gewartet werden, um längerfristigen Ausfall zu vermeiden. Aufgrund der zentralen Bedeutung des Geräts für viele Forschungsprojekte muss ein kurzfristig zur Verfügung stehender, zuverlässiger Service gewährleistet sein und die Modalitäten dafür (Kosten, Vorlaufzeit) sollen im Angebot vermerkt sein. Ein Wartungsvertrag selbst ist NICHT Gegenstand dieser Ausschreibung.
12: Wegen der zu erwartenden hohen Auslastung muss das Gerät regelmäßig gewartet werden, um längerfristigen Ausfall zu vermeiden. Aufgrund der zentralen Bedeutung des Geräts für viele Forschungsprojekte muss ein kurzfristig zur Verfügung stehender, zuverlässiger Service gewährleistet sein und die Modalitäten dafür (Kosten, Vorlaufzeit) sollen im Angebot vermerkt sein. Ein Wartungsvertrag selbst ist NICHT Gegenstand dieser Ausschreibung.
Dauer: 3 Monate
Zusätzliche Informationen:
Zu II.2.7.): Es handelt sich um einen einmaligen Lieferauftrag OHNE Laufzeiten, das Formular erfordert in diesem Feld jedoch eine Eingabe
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Universität Konstanz
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
Anzahlung bis zur Höhe von max. 50 % des Kaufpreises werden nur gegen unbefristete Bankbürgschaft nach deutschem Recht geleistet.
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Datum der Absendung der Aufforderungen: 2018-10-01 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️ Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technsicher Wert
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50
Preis (Gewichtung): 50
Das Aktenzeichen entsprechend Ziff. II.1.1) ist bei sämtlicher Korrespondenz anzugeben.
Die vollständigen Unterlagen für den Teilnahmewettbewerb sind hier veröffentlicht.
Weitergehende Auftragsunterlagen werden mit der Angebotsaufforderung nach dem
Schlusstermin für Teilnahmeanträge versendet.
Beim Schlusstermin laut Ziff. IV.2.2) handelt es sich um den Schlusstermin für den Eingang der Teilnahmeanträge (nicht für den Eingang der Angebote). Vor Ablauf des Schlusstermins gemäß Ziff. IV.2.2) werden keine Vergabeunterlagen versendet.
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes
Postanschrift: Villemomber Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Das GWB (Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen) verpflichtet uns, Sie zu gegebener Zeit über die beabsichtigte Auftragsvergabe zu informieren. Hiergegen haben Sie die Möglichkeit, innerhalb einer festgelegten Frist vor der Vergabekammer des Bundes zu klagen. Im Falle einer fristgerechten Klage erbitten wir eine entsprechende Information.
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Das GWB (Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen) verpflichtet uns, Sie zu gegebener Zeit über die beabsichtigte Auftragsvergabe zu informieren. Hiergegen haben Sie die Möglichkeit, innerhalb einer festgelegten Frist vor der Vergabekammer des Bundes zu klagen. Im Falle einer fristgerechten Klage erbitten wir eine entsprechende Information.
Quelle: OJS 2018/S 163-372006 (2018-08-23)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2019-02-11) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Beschaffung eines Rasterelektronenmikroskops mit in der Vergabebekanntmachung näher spezifizierten Eigenschaften und technischer Ausstattung für die Universität Konstanz
Gesamtwert des Auftrags: 549 000 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Angebotsart: Entfällt
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Deutsche Forschungsgemeinschaft e. V., Zentrale Beschaffungsstelle