Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert wurde, übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Um eine Kontinuität der gegenwärtigen Prozessierung zu gewährleisten, soll das Ätzen mit einer ICP-Anlage und den Gasen CHF3, CF4, H2 und O2 durchgeführt werden. Geätzt werden sollen die Materialien SiNx und SiOx in einem Multiwafer Betrieb 3 x 3“. Die Wafer sollen ohne thermische Ankopplung mit Lackmaske ätzbar sein. Eine Ätzung von einer Wafergröße bis zu 6“ soll gewährleistet werden. Des Weiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-04-02.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-02-27.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Trockenätzer
E_124_224750 ChrPat-wit FMD
Produkte/Dienstleistungen: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke📦
Kurze Beschreibung:
“Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert...”
Kurze Beschreibung
Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert wurde, übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Um eine Kontinuität der gegenwärtigen Prozessierung zu gewährleisten, soll das Ätzen mit einer ICP-Anlage und den Gasen CHF3, CF4, H2 und O2 durchgeführt werden. Geätzt werden sollen die Materialien SiNx und SiOx in einem Multiwafer Betrieb 3x3“. Die Wafer sollen ohne thermische Ankopplung mit Lackmaske ätzbar sein. Eine Ätzung von einer Wafergröße bis zu 6“ soll gewährleistet werden. Des Weiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen.
Ergänzende Informationen Referenz der ursprünglichen Mitteilung
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2018/S 042-091565
Änderungen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: IV.2.2)
Ort des zu ändernden Textes: Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Alter Wert
Datum: 2018-04-02 📅
Zeit: 23:59
Neuer Wert
Datum: 2018-04-04 📅
Zeit: 23:59
Quelle: OJS 2018/S 054-119368 (2018-03-14)
Ergänzende Angaben (2018-04-09)
Änderungen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: IV.2.2
Ort des zu ändernden Textes: Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Alter Wert
Datum: 2018-04-04 📅
Zeit: 23:59
Neuer Wert
Datum: 2018-04-11 📅
Zeit: 23:59
Quelle: OJS 2018/S 071-157229 (2018-04-09)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-10-11) Öffentlicher Auftraggeber Name und Adressen
Name:
“Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe” Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere Art: Forschungsgesellschaft e. V.
Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert...”
Kurze Beschreibung
Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert wurde, übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Um eine Kontinuität der gegenwärtigen Prozessierung zu gewährleisten, soll das Ätzen mit einer ICP-Anlage und den Gasen CHF3, CF4, H2 und O2 durchgeführt werden. Geätzt werden sollen die Materialien SiNx und SiOx in einem Multiwafer Betrieb 3 x 3“. Die Wafer sollen ohne thermische Ankopplung mit Lackmaske ätzbar sein. Eine Ätzung von einer Wafergröße bis zu 6“ soll gewährleistet werden. Des Weiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen.
Mehr anzeigen
Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 0.01 💰
1️⃣
Ort der Leistung: Berlin🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 10587 Berlin
Beschreibung der Beschaffung:
“Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert...”
Beschreibung der Beschaffung
Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert wurde, übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Um eine Kontinuität der gegenwärtigen Prozessierung zu gewährleisten, soll das Ätzen mit einer ICP-Anlage und den Gasen CHF3, CF4, H2 und O2 durchgeführt werden. Geätzt werden sollen die Materialien SiNx und SiOx in einem Multiwafer Betrieb 3 x 3“. Die Wafer sollen ohne thermische Ankopplung mit Lackmaske ätzbar sein. Eine Ätzung von einer Wafergröße bis zu 6“ soll gewährleistet werden. Des Weiteren muss die Ätzanlage über ein Endpunktkontrollsystem verfügen.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technische Ausführung
Qualitätskriterium (Gewichtung): 25
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Zusätzliche Rahmenbedingungen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 15
Preis (Gewichtung): 60
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen: Servicevertrag
Verfahren Art des Verfahrens
Wettbewerbliches Verfahren mit Verhandlung
Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2018/S 042-091565
Auftragsvergabe
1️⃣
Titel: Trockenätzer
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-09-12 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH
Postanschrift: Konrad-Zuse-Bogen 13
Postort: Krailling
Postleitzahl: 82152
Land: Deutschland 🇩🇪
Region: Starnberg🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU ✅ Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 0.01 💰
“— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter...”
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter ZifferI.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Mehr anzeigen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪 Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Postanschrift: Heinemannstraße 2
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53175
Land: Deutschland 🇩🇪 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen,...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Mehr anzeigen Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name:
“Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe”
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland 🇩🇪
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
URL: http://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2018/S 198-447867 (2018-10-11)