Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: 115 – Ätzanlagen Chlorchemie + Fluorchemie
10012648
Produkte/Dienstleistungen: Mikroelektronische Maschinen und Geräte📦
Kurze Beschreibung: Ätzanlagen Chlorchemie CDPP_RIE + Fluorchemie CDPP_ICP_RIE.
1️⃣
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Industrieprozesssteuerungsgeräte📦
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke📦
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Vakuumöfen📦
Ort der Leistung: Städteregion Aachen🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 52074 Aachen
Beschreibung der Beschaffung:
“Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_RIE/ICP-RIE“ handelt es sich um eine Trockenätzanlage, die aus 2 Modulen (mit separaten Prozesskammern) besteht. Einem...”
Beschreibung der Beschaffung
Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_RIE/ICP-RIE“ handelt es sich um eine Trockenätzanlage, die aus 2 Modulen (mit separaten Prozesskammern) besteht. Einem RIE-Modul (Reactive Ion Etching - RIE) mit einer Parallel-Platten Plasmakonfiguration und einem ICP-RIE-Modul (Inductively Coupled Plasma – ICP) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaanregung. Das RIE-Modul wird sowohl mit einer Chlor, als auch einer Brom basierten Ätzchemie betrieben. Primäre Anwendung wird die Strukturierung von Metallisierungsebenen im Back-End-of-Line und die Strukturierung von Silizium-Wellenleitern in Silizium-PIC Technologie sein. Das ICP-RIE-Modul wird mit einer Fluor basierten Ätzchemie betrieben. Primäre Anwendung wird die Strukturierung von Dielektrika (SiO2 und SiN) im Back-End-of-Line, die Strukturierung von Silizium-Wellenleitern und die Herstellung tiefer Topografien (> 25 Müm Tiefe) im Silizium Substrat in Silizium-PIC Technologie sein.
Die Module sind „Through-The-Wall“ installiert, d. h., die Be-/Entladung erfolgt jeweils über eine separate Vakuumkammer, die vom ISO5-Reinraum des CDPP zugänglich ist, während die Hauptkonsole, die u. a. die Prozesskammer beinhaltet, im ISO7-Reinraum des CDPP installiert ist. Der Transfer zwischen diesen Kammern erfolgt automatisch.
Ein besonderes Bewertungskriterium ist die zukünftige Erweiterbarkeit und die optionale Ausstattung der Anlage.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 5
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Auswahlkriterien wie in den Auftragsunterlagen angegeben
Technische und berufliche Fähigkeiten
Auswahlkriterien wie in den Auftragsunterlagen angegeben
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2019-05-24
12:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2019-07-05 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2019-05-27
10:00 📅
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2019-07-01) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: 115 - Ätzanlagen Chlorchemie + Fluorchemie
10012648
Kurze Beschreibung: Atzanlagen Chlorchemie CDPP_RIE +Fluorchemie CDPP_ICP_RIE.
Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 510 924 💰
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_RIE/ICP-RIE“ handelt es sich um eine Trockenätzanlage, die aus 2 Modulen (mit separaten Prozesskammern) besteht. Einem...”
Beschreibung der Beschaffung
Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_RIE/ICP-RIE“ handelt es sich um eine Trockenätzanlage, die aus 2 Modulen (mit separaten Prozesskammern) besteht. Einem RIE-Modul (Reactive Ion Etching – RIE) mit einer Parallel-Platten Plasmakonfiguration und einem ICP-RIE-Modul (Inductively Coupled Plasma – ICP) mit einer induktiv gekoppelten Plasmaanregung. Das RIE-Modul wird sowohl mit einer Chlor, als auch einer Brom basierten Ätzchemie betrieben. Primäre Anwendung wird die Strukturierung von Metallisierungsebenen im Back-End-of-Line und die Strukturierung von Silizium-Wellenleitern in Silizium-PIC Technologie sein. Das ICP-RIE-Modul wird mit einer Fluor basierten Ätzchemie betrieben. Primäre Anwendung wird die Strukturierung von Dielektrika (SiO2 und SiN) im Back-End-of-Line, die Strukturierung von Silizium-Wellenleitern und die Herstellung tiefer Topografien (> 25Müm Tiefe) im Silizium Substrat in Silizium-PIC Technologie sein.
Die Module sind „Through-The-Wall“ installiert, d. h., die Be-/Entladung erfolgt jeweils über eine separate Vakuumkammer, die vom ISO5-Reinraum des CDPP zugänglich ist, während die Hauptkonsole, die u. a. die Prozesskammer beinhaltet, im ISO7-Reinraum des CDPP installiert ist. Der Transfer zwischen diesen Kammern erfolgt automatisch.
Ein besonderes Bewertungskriterium ist die zukünftige Erweiterbarkeit und die optionale Ausstattung der Anlage.
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Qualitätskriterium (Bezeichnung): Mehrere Kriterien
Qualitätskriterium (Gewichtung): 100
Preis (Gewichtung): 100.00
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2019/S 077-182673
Auftragsvergabe
1️⃣
Titel: Auftragsvergabe Oxford Instruments GmbH
Datum des Vertragsabschlusses: 2019-07-01 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 1
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Oxford Instruments GmbH
Postanschrift: Borsigstr., 15a
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65205
Land: Deutschland 🇩🇪
Region: Wiesbaden, Kreisfreie Stadt🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU ✅ Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Geschätzter Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 515 000 💰
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 510924.37 💰