Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: 115 – Physical Vaporphase Deposition
10012839
Produkte/Dienstleistungen: Mikroelektronische Maschinen und Geräte📦
Kurze Beschreibung: Physical Vaporphase Deposition „PVD“ (Sputterdepositionsanlage).
1️⃣
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Industrieprozesssteuerungsgeräte📦
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke📦
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Vakuumöfen📦
Ort der Leistung: Städteregion Aachen🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 52074 Aachen
Beschreibung der Beschaffung:
“Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_PVD“ handelt es sich um eine Sputterdepositionsanlage (PVD). Die Anlage muss über 4 Sputtertargets verfügen und muss...”
Beschreibung der Beschaffung
Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_PVD“ handelt es sich um eine Sputterdepositionsanlage (PVD). Die Anlage muss über 4 Sputtertargets verfügen und muss sowohl im DC-, als auch RF-Magnetron Sputtermodus betrieben werden können. Darüber hinaus muss die Anlage über eine Wafer-Vorreinigung verfügen, mit deren Hilfe organische und anorganische Anhaftungen, sowie natürliche Oxide von der Waferoberfläche reaktiv und/oder mechanisch desorbiert werden können.
Insbesondere muss die Anlage über einen Kassetten-Lademechanismus verfügen, der es erlaubt mehrere Wafer (verschiedener Größe) und/oder Einzelproben in einem „Batch-Mode“ Verfahren sequentiell zu beschichten, ohne den Vakuumzustand aufzuheben.
Darüber hinaus muss die Anlage „Through-The-Wall“ installiert werden, d. h., die Be-/Entladung muss über eine separate Vakuumkammer (hier Kassetten-Ladekammer) erfolgen, die vom ISO5-Reinraum des CDPP zugänglich ist, während die Hauptkonsole, die u. a. die Prozesskammer beinhalten muss, im ISO7-Reinraum des CDPP installiert werden muss. Der Transfer zwischen diesen Kammern muss automatisch erfolgen.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Der nachstehende Zeitrahmen ist in Monaten ausgedrückt.
Beschreibung
Dauer: 8
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2019-06-14
12:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2019-09-06 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2019-06-17
10:00 📅
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2020-04-23) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: 115 — Physical Vaporphase Deposition
10012839
Kurze Beschreibung: Physical Vaporphase Deposition „PVD" (Sputterdepositionsanlage).
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_PVD" handelt es sich um eine Sputterdepositionsanlage (PVD). Die Anlage muss über 4 Sputtertargets verfügen und muss...”
Beschreibung der Beschaffung
Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_PVD" handelt es sich um eine Sputterdepositionsanlage (PVD). Die Anlage muss über 4 Sputtertargets verfügen und muss sowohl im DC-, als auch RF-Magnetron Sputtermodus betrieben werden können. Darüber hinaus muss die Anlage über eine Wafer-Vorreinigung verfügen, mit deren Hilfe organische und anorganische Anhaftungen, sowie natürliche Oxide von der Waferoberfläche reaktiv und/oder mechanisch desorbiert werden können.
Insbesondere muss die Anlage über einen Kassetten-Lademechanismus verfügen, der es erlaubt mehrere Wafer (verschiedener Größe) und/oder Einzelproben in einem „Batch-Mode" Verfahren sequentiell zu beschichten, ohne den Vakuumzustand aufzuheben.
Darüber hinaus muss die Anlage „Through-The-Wall" installiert werden, d. h., die Be-/Entladung muss über eine separate Vakuumkammer (hier Kassetten-Ladekammer) erfolgen, die vom ISO5-Reinraum des CDPP zugänglich ist, während die Hauptkonsole, die u. a. die Prozesskammer beinhalten muss, im ISO7-Reinraum des CDPP installiert werden muss. Der Transfer zwischen diesen Kammern muss automatisch erfolgen.
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2019/S 091-218252
Auftragsvergabe
1️⃣
Titel: Keine Auftragsvergabe (Aufhebung)
Informationen über nicht gewährte Zuschüsse
Es sind keine Angebote oder Teilnahmeanträge eingegangen oder alle wurden abgelehnt