115 – Physical Vaporphase Deposition
RWTH Aachen University
Physical Vaporphase Deposition „PVD“ (Sputterdepositionsanlage).
DeadlineDie Frist für den Eingang der Angebote war 2019-06-14. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-05-09.
Wer? Wie?- • Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme › Mikroelektronische Maschinen und Geräte
- • Steuerungs- und Fernsteuerungsgeräte für Industrieprozesse › Industrieprozesssteuerungsgeräte
- • Öfen und Zubehör › Vakuumöfen
Geschichte der Beschaffung
| Datum | Dokument |
|---|---|
| 2019-05-09 | Auftragsbekanntmachung |
| 2020-04-23 | Bekanntmachung über vergebene Aufträge |
Auftragsbekanntmachung (2019-05-09)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Referenznummer: 10012839
Kurze Beschreibung: Physical Vaporphase Deposition „PVD“ (Sputterdepositionsanlage).
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Mikroelektronische Maschinen und Geräte 📦
Zusätzlicher CPV-Code: Industrieprozesssteuerungsgeräte 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Städteregion Aachen 🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Name des öffentlichen Auftraggebers: RWTH Aachen University
Postanschrift: Wüllnerstr. 5
Postleitzahl: 52062
Postort: Aachen
Kontakt
Internetadresse: http://www.rwth-aachen.de 🌏
E-Mail: beschaffung@zhv.rwth-aachen.de 📧
Telefon: +49 2418094200 📞
Fax: +49 2418092251 📠
URL der Dokumente: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YD8YYC7/documents 🌏
URL der Teilnahme: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YD8YYC7 🌏
Referenz
Daten
Absendedatum: 2019-05-09 📅
Einreichungsfrist: 2019-06-14 📅
Veröffentlichungsdatum: 2019-05-13 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2019/S 091-218252
ABl. S-Ausgabe: 91
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXS0YD8YYC7
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Dauer: 8 Monate
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 52074 Aachen
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 12:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2019-09-06 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2019-06-17 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 10:00
Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Kontaktperson: Abt. 7.3 Einkauf & Zollangelegenheiten
Dokumente URL: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YD8YYC7/documents 🌏
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer Rheinland
Postanschrift: Zeughaustr. 2-10
Postort: Köln
Postleitzahl: 50606
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 221-1473116 📞
E-Mail: vergabekammer@bez.reg-koeln.nrw.de 📧
Fax: +49 221-1472889 📠
Internetadresse: http://www.bezreg-koeln.nrw.de/brk_internet/vergabekammer 🌏
Quelle: OJS 2019/S 091-218252 (2019-05-09)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Referenznummer: 10012839
Kurze Beschreibung: Physical Vaporphase Deposition „PVD“ (Sputterdepositionsanlage).
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Mikroelektronische Maschinen und Geräte 📦
Zusätzlicher CPV-Code: Industrieprozesssteuerungsgeräte 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Städteregion Aachen 🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Name des öffentlichen Auftraggebers: RWTH Aachen University
Postanschrift: Wüllnerstr. 5
Postleitzahl: 52062
Postort: Aachen
Kontakt
Internetadresse: http://www.rwth-aachen.de 🌏
E-Mail: beschaffung@zhv.rwth-aachen.de 📧
Telefon: +49 2418094200 📞
Fax: +49 2418092251 📠
URL der Dokumente: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YD8YYC7/documents 🌏
URL der Teilnahme: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YD8YYC7 🌏
Referenz
Daten
Absendedatum: 2019-05-09 📅
Einreichungsfrist: 2019-06-14 📅
Veröffentlichungsdatum: 2019-05-13 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2019/S 091-218252
ABl. S-Ausgabe: 91
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXS0YD8YYC7
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_PVD“ handelt es sich um eine Sputterdepositionsanlage (PVD). Die Anlage muss über 4 Sputtertargets verfügen und muss sowohl im DC-, als auch RF-Magnetron Sputtermodus betrieben werden können. Darüber hinaus muss die Anlage über eine Wafer-Vorreinigung verfügen, mit deren Hilfe organische und anorganische Anhaftungen, sowie natürliche Oxide von der Waferoberfläche reaktiv und/oder mechanisch desorbiert werden können.
Mehr anzeigen
Insbesondere muss die Anlage über einen Kassetten-Lademechanismus verfügen, der es erlaubt mehrere Wafer (verschiedener Größe) und/oder Einzelproben in einem „Batch-Mode“ Verfahren sequentiell zu beschichten, ohne den Vakuumzustand aufzuheben.
Darüber hinaus muss die Anlage „Through-The-Wall“ installiert werden, d. h., die Be-/Entladung muss über eine separate Vakuumkammer (hier Kassetten-Ladekammer) erfolgen, die vom ISO5-Reinraum des CDPP zugänglich ist, während die Hauptkonsole, die u. a. die Prozesskammer beinhalten muss, im ISO7-Reinraum des CDPP installiert werden muss. Der Transfer zwischen diesen Kammern muss automatisch erfolgen.
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Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 52074 Aachen
Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 12:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2019-09-06 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2019-06-17 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 10:00
Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Kontaktperson: Abt. 7.3 Einkauf & Zollangelegenheiten
Dokumente URL: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXS0YD8YYC7/documents 🌏
Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer Rheinland
Postanschrift: Zeughaustr. 2-10
Postort: Köln
Postleitzahl: 50606
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 221-1473116 📞
E-Mail: vergabekammer@bez.reg-koeln.nrw.de 📧
Fax: +49 221-1472889 📠
Internetadresse: http://www.bezreg-koeln.nrw.de/brk_internet/vergabekammer 🌏
Quelle: OJS 2019/S 091-218252 (2019-05-09)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2020-04-23)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung: Physical Vaporphase Deposition „PVD" (Sputterdepositionsanlage).
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Angebotsart: Entfällt
Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-04-23 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-04-28 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 083-195681
Verweist auf Bekanntmachung: 2019/S 091-218252
ABl. S-Ausgabe: 83
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXS0YD8YY1S
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Preis
Qualitätskriterium (Gewichtung): 100
Preis (Gewichtung): 100.00
Quelle: OJS 2020/S 083-195681 (2020-04-23)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung: Physical Vaporphase Deposition „PVD" (Sputterdepositionsanlage).
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Verfahren
Angebotsart: Entfällt
Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-04-23 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-04-28 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 083-195681
Verweist auf Bekanntmachung: 2019/S 091-218252
ABl. S-Ausgabe: 83
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXS0YD8YY1S
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Bei der zu beschaffenden Anlage „CDPP_PVD" handelt es sich um eine Sputterdepositionsanlage (PVD). Die Anlage muss über 4 Sputtertargets verfügen und muss sowohl im DC-, als auch RF-Magnetron Sputtermodus betrieben werden können. Darüber hinaus muss die Anlage über eine Wafer-Vorreinigung verfügen, mit deren Hilfe organische und anorganische Anhaftungen, sowie natürliche Oxide von der Waferoberfläche reaktiv und/oder mechanisch desorbiert werden können.
Mehr anzeigen
Insbesondere muss die Anlage über einen Kassetten-Lademechanismus verfügen, der es erlaubt mehrere Wafer (verschiedener Größe) und/oder Einzelproben in einem „Batch-Mode" Verfahren sequentiell zu beschichten, ohne den Vakuumzustand aufzuheben.
Darüber hinaus muss die Anlage „Through-The-Wall" installiert werden, d. h., die Be-/Entladung muss über eine separate Vakuumkammer (hier Kassetten-Ladekammer) erfolgen, die vom ISO5-Reinraum des CDPP zugänglich ist, während die Hauptkonsole, die u. a. die Prozesskammer beinhalten muss, im ISO7-Reinraum des CDPP installiert werden muss. Der Transfer zwischen diesen Kammern muss automatisch erfolgen.
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Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Preis
Qualitätskriterium (Gewichtung): 100
Preis (Gewichtung): 100.00
Quelle: OJS 2020/S 083-195681 (2020-04-23)
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