Atomic Layer Depositionsanlage

Universität Bielefeld

Atomic Layer Depositionsanlage.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2019-09-10. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2019-07-29.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Sentech Gesellschaft für Sensortechnik mbH

Wer?

• Universität Bielefeld

Wie?

• Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) › Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften

Wo?

• Detmold › Bielefeld, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2019-07-29	Auftragsbekanntmachung
2019-10-15	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2019-07-29)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften
Referenznummer: 063-2019-15
Kurze Beschreibung: Atomic Layer Depositionsanlage.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Bielefeld, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Name des öffentlichen Auftraggebers: Universität Bielefeld
Postanschrift: Universitätsstraße 25
Postleitzahl: 33615
Postort: Bielefeld
Kontakt
Internetadresse: https://www.uni-bielefeld.de/ 🌏
E-Mail: julia.marpmann@uni-bielefeld.de 📧
URL der Dokumente: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXPNYMHYW73/documents 🌏
URL der Teilnahme: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXPNYMHYW73 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2019-07-29 📅
Einreichungsfrist: 2019-09-10 📅
Veröffentlichungsdatum: 2019-08-01 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2019/S 147-361382
ABl. S-Ausgabe: 147
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXPNYMHYW73

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Atomic Layer Depositionsanlage für thermische, ozom- und plasmaunterstützte Prozesse.

Dauer: 4 Monate
Beschreibung der Optionen: Siehe Leistungsbeschreibung
Bezeichnung des von der EU finanzierten Projekts oder Programms: 34. EFRE-0300152
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

Universität Bielefeld

Universitätsstraße 25

33615 Bielefeld.

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 11:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2019-10-15 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2019-09-10 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 11:00
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): siehe Leistungsbeschreibung
Qualitätskriterium (Gewichtung): 50
Kostenkriterium (Name): Kosten und Preis
Kostenkriterium (Gewichtung): 50

Öffentlicher Auftraggeber
Kontakt
Kontaktperson: Dezernat F, Zentrale Beschaffungsabteilung
Dokumente URL: https://www.evergabe.nrw.de/VMPSatellite/notice/CXPNYMHYW73/documents 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer Westfalen
Postanschrift: Albrecht-Thaer-Straße 9
Postort: Münster
Postleitzahl: 48147
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Der öffentliche Auftraggeber weist darauf hin, dass gemäß § 160 Abs. 3 Satz 1 GWB ein Nachprüfungsantrag vor der o. g. Vergabekammer unzulässig ist, soweit:

1) der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 bleibt unberührt,

2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind.

Auf die prozessualen Vorschriften der §§ 160 ff. GWB wird außerdem hingewiesen.

Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Vergabekammer bei der Bezierksregierung Münster
Quelle: OJS 2019/S 147-361382 (2019-07-29)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2019-10-15)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 316 000 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Referenz
Daten
Absendedatum: 2019-10-15 📅
Veröffentlichungsdatum: 2019-10-18 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2019/S 202-490967
Verweist auf Bekanntmachung: 2019/S 147-361382
ABl. S-Ausgabe: 202
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXPNYMHYT5F

Objekt
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

Universität Bielefeld Universitätsstraße 25

33615 Bielefeld

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2019-09-30 📅
Name: SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH
Postort: Krailling bei München
Land: Deutschland 🇩🇪
Starnberg 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 316 000 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:

Der öffentliche Auftraggeber weist darauf hin, dass gemäß § 160 Abs. 3 Satz 1 GWB ein Nachprüfungsantrag vor der o. g. Vergabekammer unzulässig ist, soweit

Quelle: OJS 2019/S 202-490967 (2019-10-15)

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