Plasmaätzanlage für Fluorchemie

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V.

— Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus.
— Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen.
— Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden.
— Die Anlage muss reinraumtauglich konstruiert sein, bevorzugt durch die Wand zu installieren oder alternativ direkt im Reinraum aufstellbar sein.
— Die Anlage muss als Parallelplatten-Anlage ausgeführt sein und die Option bieten, vor Ort durch den Tausch der Plasmaquelle eine Umrüstung auf ICP-Plasmaätzprozesse vorzunehmen. Die passende ICP-Plasmaquelle und das dafür erforderliche Zubehör müssen im Lieferumfang enthalten sein.
Plasmaätzprozesse sollen mittels Parallelplattenanordnung oder ICP – Plasmaquelle reproduzierbar durchgeführt werden können.
— Wertungskriterien: technische Spezifikationen 70 %, Preis 30 %.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2020-09-24. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2020-08-20.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

• Sentech GmbH

Wer?

• Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V.

Wie?

• Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Wo?

• Thüringen › Jena, Kreisfreie Stadt

Geschichte der Beschaffung

Datum	Dokument
2020-08-20	Auftragsbekanntmachung
2020-11-19	Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Auftragsbekanntmachung (2020-08-20)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Referenznummer: 13.20.O.00
Kurze Beschreibung:

— Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus. — Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen. — Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden. — Die Anlage muss reinraumtauglich konstruiert sein, bevorzugt durch die Wand zu installieren oder alternativ direkt im Reinraum aufstellbar sein. — Die Anlage muss als Parallelplatten-Anlage ausgeführt sein und die Option bieten, vor Ort durch den Tausch der Plasmaquelle eine Umrüstung auf ICP-Plasmaätzprozesse vorzunehmen. Die passende ICP-Plasmaquelle und das dafür erforderliche Zubehör müssen im Lieferumfang enthalten sein. Plasmaätzprozesse sollen mittels Parallelplattenanordnung oder ICP – Plasmaquelle reproduzierbar durchgeführt werden können. — Wertungskriterien: technische Spezifikationen 70 %, Preis 30 %.

Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Zusätzlicher CPV-Code: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Jena, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V.
Postanschrift: Albert-Einstein-Straße 9
Postleitzahl: 07745
Postort: Jena
Kontakt
Internetadresse: http://www.leibniz-ipht.de 🌏
E-Mail: ipht-ausschreibungen@leibniz-ipht.de 📧
URL der Dokumente: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRDZU0/documents 🌏
URL der Teilnahme: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRDZU0 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-08-20 📅
Einreichungsfrist: 2020-09-24 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-08-25 📅
Datum des Endes: 2021-03-15 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 164-398009
ABl. S-Ausgabe: 164
Zusätzliche Informationen
Bekanntmachungs-ID: CXP4YBRDZU0

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

— Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus.

— Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen.

— Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden.

— Die Anlage muss reinraumtauglich konstruiert sein, bevorzugt durch die Wand zu installieren oder alternativ direkt im Reinraum aufstellbar sein.

— Die Anlage muss als Parallelplatten-Anlage ausgeführt sein und die Option bieten, vor Ort durch den Tausch der Plasmaquelle eine Umrüstung auf ICP-Plasmaätzprozesse vorzunehmen. Die passende ICP-Plasmaquelle und das dafür erforderliche Zubehör müssen im Lieferumfang enthalten sein.

Plasmaätzprozesse sollen mittels Parallelplattenanordnung oder ICP – Plasmaquelle reproduzierbar durchgeführt werden können.

— Wertungskriterien: technische Spezifikationen 70 %, Preis 30 %.

Beschreibung der Optionen:

Optionale Komponenten (bitte im Angebot extra auspreisen)

Zusätzlich sollen zwei Reserve-Gaslinien (bereits vorgerüstet, so dass zur Nutzung keine weiteren Komponenten gekauft werden müssen), sowie ein Wärmetauscher für die Pumpen angeboten werden.

Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V.

Albert-Einstein-Straße 9

07745 Jena

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:

— Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena;

— Eigenerklärungen gemäß ThürVgG;

— Eigenerklärung für nicht präqualifizierte Unternehmen.

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 13:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2020-11-03 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2020-09-24 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 13:00

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: eingetragener Verein
Kontakt
Dokumente URL: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRDZU0/documents 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Weimarplatz 4
Postort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland 🇩🇪
Quelle: OJS 2020/S 164-398009 (2020-08-20)

Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2020-11-19)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus. Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen. Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden. Die Anlage muss reinraumtauglich konstruiert sein, bevorzugt durch die Wand zu installieren oder alternativ direkt im Reinraum aufstellbar sein. Die Anlage muss als Parallelplatten-Anlage ausgeführt sein und die Option bieten, vor Ort durch den Tausch der Plasmaquelle eine Umrüstung auf ICP-Plasmaätzprozesse vorzunehmen. Die passende ICP-Plasmaquelle und das dafür erforderliche Zubehör müssen im Lieferumfang enthalten sein.

Gesamtwert des Auftrags: 365 200 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Leibniz-Institut für Photonische Technologien
Kontakt
Internetadresse: https://www.leibniz-ipht.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2020-11-19 📅
Veröffentlichungsdatum: 2020-11-24 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2020/S 229-563848
Verweist auf Bekanntmachung: 2020/S 164-398009
ABl. S-Ausgabe: 229

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus.

Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen.

Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden.

Die Anlage muss reinraumtauglich konstruiert sein, bevorzugt durch die Wand zu installieren oder alternativ direkt im Reinraum aufstellbar sein.

Die Anlage muss als Parallelplatten-Anlage ausgeführt sein und die Option bieten, vor Ort durch den Tausch der Plasmaquelle eine Umrüstung auf ICP-Plasmaätzprozesse vorzunehmen. Die passende ICP-Plasmaquelle und das dafür erforderliche Zubehör müssen im Lieferumfang enthalten sein.

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus.

Beschreibung der Optionen:

Zusätzlich sollen 2 Reserve-Gaslinien (bereits vorgerüstet, so dass zur Nutzung keine weiteren Komponenten gekauft werden müssen), sowie ein Wärmetauscher für die Pumpen angeboten werden.

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): technische Spezifikationen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 70 %
Preis (Gewichtung): 30 %

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2020-11-09 📅
Name: Sentech GmbH
Postanschrift: Konrad-Zuse-Bogen 13
Postort: Krailling
Postleitzahl: 82152
Land: Deutschland 🇩🇪
Starnberg 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 365 200 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: eingetragener Verein, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft
Quelle: OJS 2020/S 229-563848 (2020-11-19)

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