Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse, PECVD System mit Vakuumschleuse und rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Die Beschaffung von einem Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse und PECVD System mit Vakuumschleuse dient der Herstellung von optoelektronischen Bauelementen, die auf Materialintegration (GeSn, SiGeSn, Oxide und 2D-Materialien) auf dem Grundmaterial Si basieren. Gesucht werden erprobte Systeme, da die Ätz- und Beschichtungsprozesse für Forschungszwecke benötigt werden und unmittelbar in Forschungsprojekten eingesetzt werden sollen.
Das Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse dient zur Übertragung lithografisch hochpräzise definierter Nanostrukturen in das darunterliegende Material. Hierzu ist der Einsatz der Ätzgase Cl2, HBr, CHF3, CF4, SF6, Ar, O2 geplant, zudem soll die Anlage die Möglichkeit zur Regulierung der Wafertemperatur über einen großen Temperaturbereich und die Möglichkeit zum Atomic Layer Etching für sehr gute Kontrolle der Ätztiefen, sehr glatte Oberflächen und hervorragende Uniformität bieten. Gesucht wird ein System, das insbesondere hinsichtlich der Strukturierung des Grundmaterials Si erprobt ist. Darüber hinaus soll diese Anlage durch die große Anzahl der Prozessgase für die Strukturierung unterschiedlicher Materialklassen ausgelegt sein.
Ferner ist zur Oberflächenpassivierung bei optoelektronischen Bauelementen ein PECVD System mit Vakuumschleuse nötig, in dem Si-basierte Oxide (auf TEOS-Basis) und Nitrite sowie a-Si abgeschieden werden können. Die Anlage soll die Abscheidung von passivierenden Schichten speziell bei niedrigen Temperaturen ermöglichen.
Zur Bestimmung der Ätztiefen ist ferner ein rechnergestützes Kontakprofilometer erforderlich. Gesucht wird ein erprobtes System zur rechnergestützten zwei- oder dreidimensionalen Vermessung mikroskopischer oder submikroskopischer Oberflächentopografien inklusive passivem Schwingungsdämpfungstisch zur reinraumgeeigneten Aufstellung.
Folgende LOSE sollen vergeben werden:
— Los 1: Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse,
— Los 2: PECVD System mit Vakuumschleuse,
— Los 3: Rechnergestütztes Kontaktprofilometer.
Um Synergien der Anlagen zu nutzen und Aufwände, insbesondere Kosten, für Wartung zu reduzieren, werden Los 1 und Los 2 nur zusammen vergeben.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2021-02-12.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2021-01-12.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel:
“Forschungslabor Mikroelektronik Cottbus – Senftenberg für Siliziumbasierte Optoelektronik – ForLab FAMOS
F41_000341”
Produkte/Dienstleistungen: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)📦
Kurze Beschreibung:
“Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse, PECVD System mit Vakuumschleuse und rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Die Beschaffung...”
Kurze Beschreibung
Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse, PECVD System mit Vakuumschleuse und rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Die Beschaffung von einem Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse und PECVD System mit Vakuumschleuse dient der Herstellung von optoelektronischen Bauelementen, die auf Materialintegration (GeSn, SiGeSn, Oxide und 2D-Materialien) auf dem Grundmaterial Si basieren. Gesucht werden erprobte Systeme, da die Ätz- und Beschichtungsprozesse für Forschungszwecke benötigt werden und unmittelbar in Forschungsprojekten eingesetzt werden sollen.
Das Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse dient zur Übertragung lithografisch hochpräzise definierter Nanostrukturen in das darunterliegende Material. Hierzu ist der Einsatz der Ätzgase Cl2, HBr, CHF3, CF4, SF6, Ar, O2 geplant, zudem soll die Anlage die Möglichkeit zur Regulierung der Wafertemperatur über einen großen Temperaturbereich und die Möglichkeit zum Atomic Layer Etching für sehr gute Kontrolle der Ätztiefen, sehr glatte Oberflächen und hervorragende Uniformität bieten. Gesucht wird ein System, das insbesondere hinsichtlich der Strukturierung des Grundmaterials Si erprobt ist. Darüber hinaus soll diese Anlage durch die große Anzahl der Prozessgase für die Strukturierung unterschiedlicher Materialklassen ausgelegt sein.
Ferner ist zur Oberflächenpassivierung bei optoelektronischen Bauelementen ein PECVD System mit Vakuumschleuse nötig, in dem Si-basierte Oxide (auf TEOS-Basis) und Nitrite sowie a-Si abgeschieden werden können. Die Anlage soll die Abscheidung von passivierenden Schichten speziell bei niedrigen Temperaturen ermöglichen.
Zur Bestimmung der Ätztiefen ist ferner ein rechnergestützes Kontakprofilometer erforderlich. Gesucht wird ein erprobtes System zur rechnergestützten zwei- oder dreidimensionalen Vermessung mikroskopischer oder submikroskopischer Oberflächentopografien inklusive passivem Schwingungsdämpfungstisch zur reinraumgeeigneten Aufstellung.
Folgende LOSE sollen vergeben werden:
— Los 1: Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse,
— Los 2: PECVD System mit Vakuumschleuse,
— Los 3: Rechnergestütztes Kontaktprofilometer.
Um Synergien der Anlagen zu nutzen und Aufwände, insbesondere Kosten, für Wartung zu reduzieren, werden Los 1 und Los 2 nur zusammen vergeben.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
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Geschätzter Wert ohne MwSt: EUR 905 000 💰
Informationen über Lose
Angebote können für alle Lose eingereicht werden
Umfang der Beschaffung
Der Auftraggeber behält sich das Recht vor, Aufträge zu vergeben, die folgende Lose oder Gruppen von Losen umfassen:
“Um Synergien der Anlagen zu nutzen und Aufwände, insbesondere Kosten, für Wartung zu reduzieren, werden Los 1 und Los 2 nur zusammen vergeben.”
1️⃣ Umfang der Beschaffung
Titel: Trockenätzanlage
Titel
Los-Identifikationsnummer: LOS 1
Beschreibung
Zusätzliche Produkte/Dienstleistungen: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)📦
Ort der Leistung: Oberspreewald-Lausitz🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“BTU Cottbus-Senftenberg Platz der Deutschen Einheit 1
03046 Cottbus
Gebäude 14E, Campus Senftenberg”
Beschreibung der Beschaffung:
“Trockenätzanlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt...”
Beschreibung der Beschaffung
Trockenätzanlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
Mehr anzeigen Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Technisch-inhaltliche Anforderungen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 60
Qualitätskriterium (Bezeichnung): Service
Qualitätskriterium (Gewichtung): 10
Preis (Gewichtung): 30
Umfang der Beschaffung
Geschätzter Gesamtwert ohne MwSt: EUR 500 000 💰
Dauer
Datum des Endes: 2021-10-29 📅
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen: Gemäß Leistungsbeschreibung zu Los 1 unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
Beschreibung
Zusätzliche Informationen: Bei dem geschätzten Wert handelt es sich um den Netto-Wert.
2️⃣ Umfang der Beschaffung
Titel: PECVD-Anlage
Titel
Los-Identifikationsnummer: LOS 2
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“PECVD-Anlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.”
Beschreibung der Beschaffung
PECVD-Anlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
Mehr anzeigen Umfang der Beschaffung
Geschätzter Gesamtwert ohne MwSt: EUR 350 000 💰
Informationen über Optionen
Beschreibung der Optionen: Gemäß Leistungsbeschreibung zu Los 2 unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
3️⃣ Umfang der Beschaffung
Titel: Kontaktprofilometer
Titel
Los-Identifikationsnummer: LOS 3
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Kontaktprofilometer gemäß Leistungsbeschreibung
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt...”
Beschreibung der Beschaffung
Kontaktprofilometer gemäß Leistungsbeschreibung
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“.
Mehr anzeigen Umfang der Beschaffung
Geschätzter Gesamtwert ohne MwSt: EUR 55 000 💰
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Liste und kurze Beschreibung der Bedingungen: /
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien: /
Bedingungen für die Teilnahme
/
Technische und berufliche Fähigkeiten
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien:
“Siehe auch Dokument „Eignungskriterien Los 1 und Los 2“ unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“
— Existenz eines eigenen Applikationsreinraums des Herstellers...”
Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien
Siehe auch Dokument „Eignungskriterien Los 1 und Los 2“ unter dem Punkt „Vergabeunterlagen“
— Existenz eines eigenen Applikationsreinraums des Herstellers (keine Partner). Es wird erwartet, dass der Anbieter dort mindestens 20 Anlagen, davon mindestens 5 ICP-Trockenätzsysteme und mindestens 3 PECVD-Anlagen, nachweisen kann. Die Zahl der Prozessingenieure sollte mindestens 20 betragen, um eine große Bandbreite an Prozessen abdecken zu können. (Nachweis durch Eigenerklärung, wir behalten uns außerdem das Recht vor, das Labor bei der Auswertung für eine Demonstration zu besuchen.),
— Existenz einer kostenlosen Service-Hotline, die seit mindestens 10 Jahren läuft und eine Reaktionszeit von maximal 30 Minuten hat (Eigenerklärung und Kontaktinformationen der entsprechenden Personen),
— Reaktionszeit von maximal 2 Arbeitstagen für Servicebesuch (Nachweis durch Eigenerklärung),
— Nachweis von Maßnahmen zur Umweltverträglichkeit (Nachweis z. B. durch ISO 14001:2004 Zertifizierung.
Mehr anzeigen Bedingungen für die Teilnahme
Bedingungen für die Teilnahme (technische und berufliche Fähigkeiten): /
Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung: /
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2021-02-12
12:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2021-03-16 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2021-03-16
12:01 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote (Informationen über die befugten Personen und das Öffnungsverfahren):
“Die Angebote werden unverzüglich nach dem Ende der Angebotsfrist von 2 Mitarbeitern der Vergabestelle im 4-Augen-Prinzip geöffnet. Bieter sind lt. VgV bei...”
Bedingungen für die Öffnung der Angebote (Informationen über die befugten Personen und das Öffnungsverfahren)
Die Angebote werden unverzüglich nach dem Ende der Angebotsfrist von 2 Mitarbeitern der Vergabestelle im 4-Augen-Prinzip geöffnet. Bieter sind lt. VgV bei der Öffnung der Angebote nicht zugelassen.
Ergänzende Informationen Informationen über elektronische Arbeitsabläufe
Die elektronische Bestellung wird verwendet
Die elektronische Rechnungsstellung wird akzeptiert
Elektronische Zahlung wird verwendet
Zusätzliche Informationen
“Bitte beachten Sie die Bewerbungsbedingungen eVergabe unter „Vergabeunterlagen“.
Vorsorglich wird insbesondere auf Punkt 1, Nr. 1 der VOL/B mit dem Hinweis...”
Bitte beachten Sie die Bewerbungsbedingungen eVergabe unter „Vergabeunterlagen“.
Vorsorglich wird insbesondere auf Punkt 1, Nr. 1 der VOL/B mit dem Hinweis verwiesen, dass anderslautende Geschäfts-, Liefer-, oder Zahlungsbedingungen des Auftragnehmers nicht Bestandteil des Vertrages werden.
Bekanntmachungs-ID: CXP9YY0R5EH
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Name:
“Vergabekammer des Landes Brandenburg beim Ministerium für Wirtschaft, Arbeit und Energie”
Postanschrift: Heinrich-Mann-Allee 107
Postort: Potsdam
Postleitzahl: 14473
Land: Deutschland 🇩🇪
Telefon: +49 3318661-610📞
Fax: +49 3318661-652 📠
URL: https://mwae.brandenburg.de/de/vergabekammer-nachpr%c3%bcfungsverfahren/bb1.c.478846.de🌏 Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse am Auftrag hat und eine...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse am Auftrag hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht. Der Antrag ist unzulässig, soweit:
1) der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat,
2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Der Antrag ist schriftlich bei der Vergabekammer einzureichen und unverzüglich zu begründen.
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Quelle: OJS 2021/S 010-016704 (2021-01-12)
Ergänzende Angaben (2021-02-11)
Ergänzende Informationen Referenz der ursprünglichen Mitteilung
Nummer der Bekanntmachung im Amtsblatt S: 2021/S 010-016704
Änderungen Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: IV.2.2)
Ort des zu ändernden Textes: Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Alter Wert
Datum: 2021-02-12 📅
Zeit: 12:00
Neuer Wert
Datum: 2021-02-19 📅
Zeit: 12:00
Zu berichtigender Text in der ursprünglichen Bekanntmachung
Nummer des Abschnitts: IV.2.7)
Ort des zu ändernden Textes: Bedingungen für die Öffnung der Angebote
Alter Wert
Datum: 2021-03-16 📅
Zeit: 12:01
Neuer Wert
Datum: 2021-02-19 📅
Zeit: 12:01
Andere zusätzliche Informationen
“Die Angebotsfrist wird bis zum 19.2.2021, 12.00 Uhr verlängert. Die Angebote werden danach, um 12.01 Uhr, im 4-Augen-Prinzip von der Vergabestelle geöffnet.”
Quelle: OJS 2021/S 032-079676 (2021-02-11)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2021-05-27) Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse, PECVD System mit Vakuumschleuse und rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Die Beschaffung...”
Kurze Beschreibung
Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse, PECVD System mit Vakuumschleuse und rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Die Beschaffung von einem Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse und PECVD System mit Vakuumschleuse dient der Herstellung von optoelektronischen Bauelementen, die auf Materialintegration (GeSn, SiGeSn, Oxide und 2D-Materialien) auf dem Grundmaterial Si basieren. Gesucht werden erprobte Systeme, da die Ätz- und Beschichtungsprozesse für Forschungszwecke benötigt werden und unmittelbar in Forschungsprojekten eingesetzt werden sollen.
Das Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse dient zur Übertragung lithografisch hochpräzise definierter Nanostrukturen in das darunterliegende Material. Hierzu ist der Einsatz der Ätzgase Cl2, HBr, CHF3, CF4, SF6, Ar, O2 geplant, zudem soll die Anlage die Möglichkeit zur Regulierung der Wafertemperatur über einen großen Temperaturbereich und die Möglichkeit zum Atomic Layer Etching für sehr gute Kontrolle der Ätztiefen, sehr glatte Oberflächen und hervorragende Uniformität bieten. Gesucht wird ein System, das insbesondere hinsichtlich der Strukturierung des Grundmaterials Si erprobt ist. Darüber hinaus soll diese Anlage durch die große Anzahl der Prozessgase für die Strukturierung unterschiedlicher Materialklassen ausgelegt sein.
Ferner ist zur Oberflächenpassivierung bei optoelektronischen Bauelementen ein PECVD System mit Vakuumschleuse nötig, in dem Si-basierte Oxide (auf TEOS-Basis) und Nitrite sowie a-Si abgeschieden werden können. Die Anlage soll die Abscheidung von passivierenden Schichten speziell bei niedrigen Temperaturen ermöglichen.
Zur Bestimmung der Ätztiefen ist ferner ein rechnergestützes Kontakprofilometer erforderlich. Gesucht wird ein erprobtes System zur rechnergestützten zwei- oder dreidimensionalen Vermessung mikroskopischer oder submikroskopischer Oberflächentopografien inklusive passivem Schwingungsdämpfungstisch zur reinraumgeeigneten Aufstellung.
— Los 1: Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse,
— Los 2: PECVD System mit Vakuumschleuse,
— Los 3: Rechnergestütztes Kontaktprofilometer,
Um Synergien der Anlagen zu nutzen und Aufwände, insbesondere Kosten, für Wartung zu reduzieren, werden LOS 1 und Los 2 nur zusammen vergeben.
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Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 903 370 💰
Informationen über Lose
Dieser Vertrag ist in Lose unterteilt ✅ Beschreibung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“BTU Cottbus-Senftenberg
Universitätsplatz 1
01968 Senftenberg
Gebäude 14E, Campus Senftenberg”
Beschreibung der Beschaffung: Trockenätzanlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Informationen über Optionen
Beschreibung der Optionen: Gemäß Leistungsbeschreibung zu Los 1
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung: PECVD-Anlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Informationen über Optionen
Beschreibung der Optionen: Gemäß Leistungsbeschreibung zu Los 2
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung: Kontaktprofilometer gemäß Leistungsbeschreibung
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2021/S 010-016704
Auftragsvergabe
1️⃣
Vertragsnummer: 21-1504-137-0084
Los-Identifikationsnummer: 1 und 2
Titel: Trockenätzsystem und PECVD System
Datum des Vertragsabschlusses: 2021-04-21 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 1
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Oxford Instruments GmbH
Postanschrift: Borsigstraße 15a
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65205
Land: Deutschland 🇩🇪
Region: Wiesbaden, Kreisfreie Stadt🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU
Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Geschätzter Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 850 000 💰
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 850 000 💰
2️⃣
Vertragsnummer: 21-1504-137-0085
Los-Identifikationsnummer: 3
Titel: Rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Datum des Vertragsabschlusses: 2021-05-03 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 1
Anzahl der auf elektronischem Wege eingegangenen Angebote: 2
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Schaefer Technologie GmbH
Postanschrift: Robert-Bosch-Str. 31
Postort: Langen
Postleitzahl: 63225
Region: Offenbach, Landkreis🏙️ Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Geschätzter Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 55 000 💰
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 53 370 💰
“Bitte beachten Sie die Bewerbungsbedingungen eVergabe unter „Vergabeunterlagen“.
Vorsorglich wird insbesondere auf Punkt 1, Nr. 1 der VOL/B mit dem Hinweis...”
Bitte beachten Sie die Bewerbungsbedingungen eVergabe unter „Vergabeunterlagen“.
Vorsorglich wird insbesondere auf Punkt 1, Nr. 1 der VOL/B mit dem Hinweis verwiesen, dass anderslautende Geschäfts-, Liefer-, oder Zahlungsbedingungen des Auftragnehmers nicht Bestandteil des Vertrages werden.
Bekanntmachungs-ID: CXP9YY0R0B7.
Mehr anzeigen Verfahren zur Überprüfung
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren:
“Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse am Auftrag hat und eine...”
Genaue Informationen über Fristen für Überprüfungsverfahren
Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse am Auftrag hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht.
Der Antrag ist unzulässig, soweit:
1) der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat,
2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Der Antrag ist schriftlich bei der Vergabekammer einzureichen und unverzüglich zu begründen.
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Quelle: OJS 2021/S 104-273443 (2021-05-27)