Los 1 - Mask Aligner

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.
- Wertungskriterien: technische Spezifikationen 60%, Preis 40%

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2021-12-09. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2021-11-04.

Anbieter

Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2021-11-04 Auftragsbekanntmachung
2022-02-01 Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Auftragsbekanntmachung (2021-11-04)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Referenznummer: 08.21.O.01
Kurze Beschreibung:
“Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende...”    Mehr anzeigen
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) 📦
Ort der Leistung
NUTS-Region: Jena, Kreisfreie Stadt 🏙️

Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.
Postanschrift: Albert-Einstein-Straße 9
Postleitzahl: 07745
Postort: Jena
Kontakt
Internetadresse: http://www.leibniz-ipht.de 🌏
E-Mail: ipht-ausschreibungen@leibniz-ipht.de 📧
URL der Dokumente: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRRLC2/documents 🌏
URL der Teilnahme: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRRLC2 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2021-11-04 📅
Einreichungsfrist: 2021-12-09 📅
Veröffentlichungsdatum: 2021-11-09 📅
Datum des Endes: 2022-09-30 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2021/S 217-570487
ABl. S-Ausgabe: 217
Zusätzliche Informationen

“Bekanntmachungs-ID: CXP4YBRRLC2”

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende...”    Mehr anzeigen

“- Wertungskriterien: technische Spezifikationen 60%, Preis 40%”
Beschreibung der Optionen:
“Optionen bitte separat auspreisen.”

“Technik:”
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“- Regelbares Ansaugvakuum für das Handling von Wafern mit Membranen,”

“- Ersatzteil-Kit für Verschleißteile, zur Vermeidung von Ausfallszeiten,”

“- Ermittlung der optimalen Belichtungsdosis in mindestens 6 Stufen - ohne Entnahme des Substrates und der Maske,”

“- UV-Sensor für Wellenlänge 400 nm zur Referenzermittlung.”

“Optikzubehör:”

“- 10-fach Objektive für Ober- und Unterseitenmikroskop.”

“Substrathalter (Chucks):”

“- 1 Stück Chuck für Wafer 100 mm Durchm., geeignet für Vorder - und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,”

“- 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Durchm., geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,”

“- 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Durchm., geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung über den gesamten Wafer.”

“Maskenhalter:”

“- 1 Stück für 7" x 7",”

“- 1 Stück für 5" x 5" für Proximitybelichtung.”

“Zusatzausrüstungen:”

“Die Nachrüstbarkeit der folgenden Optionen muss bei Bedarf möglich sein:”

“- Nanoimprint Lithografie,”

“- Softwaremodul für Bondalignment sowie Bondchucks.”
Bezeichnung des von der EU finanzierten Projekts oder Programms: 2021 FGI 0020
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. Albert-Einstein-Straße 9 07745 Jena”

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“- Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena”

“- Eigenerklärungen gemäß ThürVgG”
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“- Eigenerklärung für nicht präqualifizierte Unternehmen”

Verfahren
Rechtsgrundlage: 32014L0024
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 13:00
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2022-02-07 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2021-12-09 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 13:00

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: eingetragener Verein
Kontakt
Dokumente URL: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRRLC2/documents 🌏

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Weimarplatz 4
Postort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland 🇩🇪
Quelle: OJS 2021/S 217-570487 (2021-11-04)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2022-02-01)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Die Ausschreibung "08.21.O.01 / Los 1 - Mask Aligner" stellt Los 1 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen...”    Mehr anzeigen
Gesamtwert des Auftrags: 229 706 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge

Verfahren
Angebotsart: Entfällt

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Leibniz-Institut für Photonische Technologien
Kontakt
Internetadresse: https://www.leibniz-ipht.de 🌏

Referenz
Daten
Absendedatum: 2022-02-01 📅
Veröffentlichungsdatum: 2022-02-04 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2022/S 025-061637
Verweist auf Bekanntmachung: 2021/S 217-570487
ABl. S-Ausgabe: 25

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Die Ausschreibung "08.21.O.01 / Los 1 - Mask Aligner" stellt Los 1 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen...”    Mehr anzeigen
Beschreibung der Optionen:
“Folgende Optionen sollen mit angeboten werden und sind separat zu auszupreisen:”

“• Regelbares Ansaugvakuum für das Handling von Wafern mit Membranen,”
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“• Ersatzteil-Kit für Verschleißteile, zur Vermeidung von Ausfallszeiten,”

“• Ermittlung der optimalen Belichtungsdosis in mindestens 6 Stufen - ohne Entnahme des Substrates und der Maske,”

“• UV-Sensor für Wellenlänge 400 nm zur Referenzermittlung.”

“• 10-fach Objektive für Ober- und Unterseitenmikroskop.”

“• 1 Stück Chuck für Wafer 100 mm Ø, geeignet für Vorder - und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,”

“• 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Ø, geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,”

“• 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Ø, geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung über den gesamten Wafer.”

“• 1 Stück für 7“ x 7“,”

“• 1 Stück für 5“ x 5“ für Proximitybelichtung.”

“• Nanoimprint Lithografie,”

“• Softwaremodul für Bondalignment sowie Bondchucks.”

Verfahren
Vergabekriterien
Qualitätskriterium (Bezeichnung): technische Spezifikationen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 60%
Preis (Gewichtung): 40%

Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2022-01-17 📅
Name: EV Group E. Thallner GmbH
Postanschrift: Hartham 13
Postort: Neuhaus
Postleitzahl: 94152
Land: Deutschland 🇩🇪
Passau, Kreisfreie Stadt 🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 229 706 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: eingetragener Verein, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft
Quelle: OJS 2022/S 025-061637 (2022-02-01)