Analytisches Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop mit integriertem Rastersondenmikroskop

Kurze Beschreibung

Es soll ein analytisches Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop mit integriertem Rastersondenmikroskop zur Analyse neuartiger, im Rahmen der Forschungsarbeiten am Zentrum hergestellter Materialien, beschafft werden. Das Gerät soll einen sehr guten Materialkontrast bei der Detektion von Sekundär- und Rückstreuelektronen ermöglichen. Lokale chemische Analysen sollen mit Hilfe der energiedispersiven Röntgenspektroskopie (EDX) hochortsaufgelöst erfolgen. Eine Erfassung von örtlichen kristallinen Eigenschaften ist über Elektronenrückstreubeugung (EBSD) geplant. Dazu ist eine kontrollierte fokussierte Ionenstrahlpräparation der Probenoberfläche erforderlich. Das integrierte Rastersondenmikroskop soll korrelierte Analysen ermöglichen, z.B. neben der Aufnahme der Topographie unter anderem eine Messung der elektronischen und thermischen Eigenschaften.
Der Vorteil der Kombination von einem Rasterelektronen- und Rastersondenmikroskop in einem Gerät besteht darin, dass der Elektronenstrahl und die Rastersonde sowohl als Detektor, zur Erfassung von unterschiedlichen lokalen Wechselwirkungsprodukten an der gleichen Probenstelle, als auch als Aktuatoren, zur Modifizierung von örtlichen Probeneigenschaften, verwendet werden können. Diese Hybridmesstechniken geben im Gegensatz zu rein rasterelektronen- bzw. rein rastersondenmikroskopischen Verfahren Zugang zu einer Vielzahl von weiteren relevanten Probeneigenschaften mit höchster Ortsauflösung.

Hauptstandort oder Erfüllungsort

Bergische Universität Wuppertal Campus Freudenberg Rainer-Gruenter-Straße 21 42119 Wuppertal Der Aufstellort befindet sich im Erdgeschoss (in der Anlieferungszone ist der Zugang unmittelbar mit einem LKW erreichbar) des Gebäude FG auf dem Campus Freudenberg.

Beschreibung der Beschaffung

- Lieferung, Aufbau und umweltgerechte Entsorgung der Verpackungen müssen im Angebot enthalten sein.
- Das Gerät muss als Neugerät angeboten werden.
- Support via Telefon oder Videokonferenz mindestens zu den üblichen Geschäftszeiten (Mo.-Fr. 09:00 - 17:00 Uhr).
- Mindestens 12 Monate Garantie für alle Komponenten.
- Vollständige Ersatzteilverfügbarkeit muss für mindestens 10 Jahre bestehen.
- Das Gerät muss eine Abbildung mit einer Ortsauflösung < 1 nm bei hohen Primärelektronenenergien von > 15 keV und einer Ortsauflösung < 1,5 nm bei geringen Beschleunigungsenergien < 1 keV gewährleisten.
- Eine Vorrichtung zur Bereinigung von Kontaminationen auf der Probenoberfläche muss vorhanden sein.
- Das Gerät muss über Inlens-Sekundär-, Inlens-Rückstreuelektronen- als auch über einen STEM-Detektor Detektoren verfügen.
- Das Gerät muss mit einem zusätzlichen Sekundärelektronen-Detektor ausgestattet sein.
- Das Gerät muss eine Elektronenstrahllithographie von Nanometer Bauelementen ermöglichen.
- Das Gerät muss über eine EDX-Mikroanalyse verfügen.
- Das Gerät muss eine zuverlässige Detektion von Elementen mit niedrigen Ordnungszahlen (> Be) gewährleisten. Punktanalysen und Mapping müssen möglich sein.
- Das Gerät muss eine Datenbank besitzen, die eine Zuordnung zahlreicher Materialspektren erlaubt.
- Das Gerät muss für elektrisch schlecht leitende Materialien die Möglichkeit besitzen, Probenaufladungen durch den Primärelektronenstrahl bei hohen Energien zu vermeiden.
- Das Gerät muss mit einem EBSD-System mit schneller Detektionseinheit ausgestattet sein.
- Das Gerät muss gewährleisten, dass örtliche kristalline Eigenschaften erfasst werden können. Punktanalyse und Mapping müssen möglich sein.
- Für EBSD, Tomographie- und Querschnittsanalysen von Schichtsystemen muss das Gerät mit einem vollständig integrierten FIB-System ausgestattet sein.
- Das FIB-System muss es erlauben, lokal Nanometer-Schichten schrittweise abzutragen (Tomographie).
- Das System muss einen Sekundär-Ionen-Detektor besitzen.
- Es muss eine in situ Probenpräparationsmöglichkeit zur Verfügung stehen.
- Es muss ein System zur Unterstützung von Ätzprozessen bei dickeren Probenstrukturen vorhanden sein.
- Das Gerät muss mit einem integrierbaren Rastersondenmikroskop ausgestattet sein.
- Es muss ein Probentransfer unter Vakuum gewährleistet sein.
- Das System muss mit Hilfe einer Laserdeflektionseinheit uneingeschränkt neben der Erfassung der Topographie die Möglichkeit besitzen, AFM-basierte Nanoanalysen, wie z.B. KPFM, c-AFM und SThM, durchzuführen.
- Das Gerät muss ein Proben-Schleuse-System besitzen, welches einen Probentransfer aus einer Handschuhbox unter Schutzgas ins Gerät gewährleistet, ohne die Proben an Luft auszusetzen.
- Das Proben-Schleuse-System muss auch im Rastersondenmikroskop-Betrieb den Probentransfer aus einer Handschuhbox unter Schutzgas ins Gerät gewährleisten, ohne die Proben an Luft auszusetzen.
- Das Gerät muss ein CE-Zertifikat und eine Röntgenzulassung bzw. Bauartzulassung nach RöV Richtlinien besitzen.

Liste und kurze Beschreibung der Auswahlkriterien

- Liste der wesentlichen in den letzten fünf Jahren erbrachten Leistungen mit Angabe des Wertes, des Zeitraums der Leistungserbringung und des Auftraggebers (Anlage E1 - Referenzen). Hier sind mindestens 2 vergleichbare Referenzen zu nennen. Als vergleichbar gilt ein Auftrag, wenn das jeweils installierte Rastersondenmikroskop eine Laserdeflektionseinheit besitzt.
- Nachweis der Zertifizierung nach DIN EN ISO 9001 oder gleichwertig
- Nachweis der Zertifizierung nach DIN EN ISO 14001 oder gleichwertig
- Angabe, welche Teile des Auftrags das Unternehmen unter Umständen als Unteraufträge zu vergeben beabsichtigt

Bedingungen für die Vertragserfüllung

- Lieferung, Aufbau und umweltgerechte Entsorgung der Verpackungen müssen im Angebot enthalten sein.
- Das Gerät muss als Neugerät angeboten werden.
- Support via Telefon oder Videokonferenz mindestens zu den üblichen Geschäftszeiten (Mo.-Fr. 09:00 - 17:00 Uhr).
- Mindestens 12 Monate Garantie für alle Komponenten.
- Vollständige Ersatzteilverfügbarkeit muss für mindestens 10 Jahre bestehen.
- Das Gerät muss eine Abbildung mit einer Ortsauflösung < 1 nm bei hohen Primärelektronenenergien von > 15 keV und einer Ortsauflösung < 1,5 nm bei geringen Beschleunigungsenergien < 1 keV gewährleisten.
- Eine Vorrichtung zur Bereinigung von Kontaminationen auf der Probenoberfläche muss vorhanden sein.
- Das Gerät muss über Inlens-Sekundär-, Inlens-Rückstreuelektronen- als auch über einen STEM-Detektor Detektoren verfügen.
- Das Gerät muss mit einem zusätzlichen Sekundärelektronen-Detektor ausgestattet sein.
- Das Gerät muss eine Elektronenstrahllithographie von Nanometer Bauelementen ermöglichen.
- Das Gerät muss über eine EDX-Mikroanalyse verfügen.
- Das Gerät muss eine zuverlässige Detektion von Elementen mit niedrigen Ordnungszahlen (> Be) gewährleisten. Punktanalysen und Mapping müssen möglich sein.
- Das Gerät muss eine Datenbank besitzen, die eine Zuordnung zahlreicher Materialspektren erlaubt.
- Das Gerät muss für elektrisch schlecht leitende Materialien die Möglichkeit besitzen, Probenaufladungen durch den Primärelektronenstrahl bei hohen Energien zu vermeiden.
- Das Gerät muss mit einem EBSD-System mit schneller Detektionseinheit ausgestattet sein.
- Das Gerät muss gewährleisten, dass örtliche kristalline Eigenschaften erfasst werden können. Punktanalyse und Mapping müssen möglich sein.
- Für EBSD, Tomographie- und Querschnittsanalysen von Schichtsystemen muss das Gerät mit einem vollständig integrierten FIB-System ausgestattet sein.
- Das FIB-System muss es erlauben, lokal Nanometer-Schichten schrittweise abzutragen (Tomographie).
- Das System muss einen Sekundär-Ionen-Detektor besitzen.
- Es muss eine in situ Probenpräparationsmöglichkeit zur Verfügung stehen.
- Es muss ein System zur Unterstützung von Ätzprozessen bei dickeren Probenstrukturen vorhanden sein.
- Das Gerät muss mit einem integrierbaren Rastersondenmikroskop ausgestattet sein.
- Es muss ein Probentransfer unter Vakuum gewährleistet sein.
- Das System muss mit Hilfe einer Laserdeflektionseinheit uneingeschränkt neben der Erfassung der Topographie die Möglichkeit besitzen, AFM-basierte Nanoanalysen, wie z.B. KPFM, c-AFM und SThM, durchzuführen.
- Das Gerät muss ein Proben-Schleuse-System besitzen, welches einen Probentransfer aus einer Handschuhbox unter Schutzgas ins Gerät gewährleistet, ohne die Proben an Luft auszusetzen.
- Das Proben-Schleuse-System muss auch im Rastersondenmikroskop-Betrieb den Probentransfer aus einer Handschuhbox unter Schutzgas ins Gerät gewährleisten, ohne die Proben an Luft auszusetzen.
- Das Gerät muss ein CE-Zertifikat und eine Röntgenzulassung bzw. Bauartzulassung nach RöV Richtlinien besitzen.