Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4" Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.
- Wertungskriterien: technische Spezifikationen 60%, Preis 40%
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2022-03-02.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2022-01-26.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Los 3 - Maskless Aligner
08.21.O.03
Produkte/Dienstleistungen: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)📦
Kurze Beschreibung:
“Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen...”
Kurze Beschreibung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4" Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.
- Wertungskriterien: technische Spezifikationen 60%, Preis 40%
1️⃣
Ort der Leistung: Jena, Kreisfreie Stadt🏙️
Hauptstandort oder Erfüllungsort:
“Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. Albert-Einstein-Straße 9 07745 Jena”
Beschreibung der Beschaffung:
“Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen...”
Beschreibung der Beschaffung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4" Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.
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Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium, und alle Kriterien werden nur in den Auftragsunterlagen genannt
Dauer
Datum des Endes: 2022-07-31 📅
Informationen über Optionen
Optionen ✅
Beschreibung der Optionen:
“Optionen bitte separat auspreisen.
- Zeichnung-Mode (Einzeichnen bzw. importieren von Strukturen wie Linien und Rechtecke in das Kamerabild und diese...”
Beschreibung der Optionen
Optionen bitte separat auspreisen.
- Zeichnung-Mode (Einzeichnen bzw. importieren von Strukturen wie Linien und Rechtecke in das Kamerabild und diese belichten),
- Bildaufnahme, Breitenmessung und Wafermapping,
- Übersichtsaufnahme größerer Flächen (ca. 10 x 10 mm²),
- Schwingungsgedämpfter Tisch (zum Gerät passend),
- Garantiezeitverlängerung auf 2 Jahre
Mehr anzeigen Umfang der Beschaffung
Informationen über die Fonds der Europäischen Union: 2021 FGI 0020
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für den Vertrag
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
“- Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena
- Eigenerklärungen gemäß ThürVgG
- Eigenerklärung für nicht präqualifizierte Unternehmen”
Bedingungen für die Vertragserfüllung
- Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena
- Eigenerklärungen gemäß ThürVgG
- Eigenerklärung für nicht präqualifizierte Unternehmen
Verfahren Art des Verfahrens
Offenes Verfahren
Administrative Informationen
Frist für den Eingang von Angeboten oder Teilnahmeanträgen: 2022-03-02
13:00 📅
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Englisch 🗣️
Das Angebot muss gültig sein bis: 2022-05-01 📅
Bedingungen für die Öffnung der Angebote: 2022-03-02
13:00 📅
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2022-03-18) Öffentlicher Auftraggeber Name und Adressen
Name: Leibniz-Institut für Photonische Technologien
URL: https://www.leibniz-ipht.de🌏 Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere Art: eingetragener Verein, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft
Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
“Die Ausschreibung "08.21.O.03 / Los 3 - Maskless Aligner" stellt Los 3 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen...”
Kurze Beschreibung
Die Ausschreibung "08.21.O.03 / Los 3 - Maskless Aligner" stellt Los 3 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar. Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4“ Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.
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Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.): EUR 128 230 💰
Beschreibung
Beschreibung der Beschaffung:
“Die Ausschreibung "08.21.O.03 / Los 3 - Maskless Aligner" stellt Los 3 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen...”
Beschreibung der Beschaffung
Die Ausschreibung "08.21.O.03 / Los 3 - Maskless Aligner" stellt Los 3 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar. Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4“ Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.
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Qualitätskriterium (Bezeichnung): technische Spezifikationen
Qualitätskriterium (Gewichtung): 60%
Preis (Gewichtung): 40%
Informationen über Optionen
Beschreibung der Optionen:
“Nachfolgende Optionen sollen mit angeboten werden:
• Zeichnung-Mode (Einzeichnen bzw. importieren von Strukturen wie Linien und Rechtecke in das Kamerabild...”
Beschreibung der Optionen
Nachfolgende Optionen sollen mit angeboten werden:
• Zeichnung-Mode (Einzeichnen bzw. importieren von Strukturen wie Linien und Rechtecke in das Kamerabild und diese belichten),
• Bildaufnahme, Breitenmessung und Wafermapping,
• Übersichtsaufnahme größerer Flächen (ca. 10 x 10 mm²),
• Schwingungsgedämpfter Tisch (zum Gerät passend),
• Garantiezeitverlängerung auf 2 Jahre.
Verfahren Administrative Informationen
Frühere Veröffentlichungen zu diesem Verfahren: 2022/S 021-051333
Auftragsvergabe
1️⃣
Vertragsnummer: 2220049/295304
Los-Identifikationsnummer: 3
Titel: Los 3 - Maskless Aligner
Datum des Vertragsabschlusses: 2022-03-18 📅
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Name und Anschrift des Auftragnehmers
Name: Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
Postanschrift: Mittelgewannweg 27
Postort: Heidelberg
Postleitzahl: 69123
Land: Deutschland 🇩🇪
Region: Heidelberg, Stadtkreis🏙️
Der Auftragnehmer ist ein KMU
Angaben zum Wert des Auftrags/der Partie (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: EUR 128 230 💰
Quelle: OJS 2022/S 058-151702 (2022-03-18)