Anbieter: Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

11 archivierte Beschaffungen

Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH erwähnt wird

2024-07-03   OV_LK_04-24-0166 Laserschreiber (Forschungsverbund Berlin e.V.)
Lieferung, Aufstellung, Anschluss und Inbetriebnahme eines Laserschreibers Ansicht der Beschaffung »
2024-04-22   WDH - Maskless Aligner (Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.)
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchip bis zum 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind Strukturauflösungen bis 600 nm Linienbreite (CD) im Resist, präzise Mehrebenen-Justage mit bis zu 250 nm Überdeckungsgenauigkeit und Schreibgeschwindigkeiten, die Belichtungsanzahlen von … Ansicht der Beschaffung »
2022-03-03   Lieferung eines Laserlithografiesystem (Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG))
Lieferung eines Lithografiesystems gem. beigefügter Leistungsbeschreibung Ansicht der Beschaffung »
2022-01-26   Los 3 - Maskless Aligner (Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.)
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4" Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken … Ansicht der Beschaffung »
2019-06-17   Maskenloser Direktbelichter (Physikalisch-Technische Bundesanstalt)
Lieferung, Aufbau und Inbetriebnahme von 1 Stück Maskenloser Direktbelichter. Ansicht der Beschaffung »
2019-05-14   Maskenloser Belichter (TU Ilmenau, Dezernat Finanzen, SG Beschaffung)
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen, eine Anlage zur laserbasierten UV-Lithografie ohne Verwendung von Masken mit automatischem Alignment für Wafer bis 150 mm Durchmesser mit Sub-Mikrometer-Auflösung bei hohem Durchsatz für Anwendungen in der Mikro- und Nanotechnologie zu beschaffen. Ansicht der Beschaffung »
2018-10-12   Laserlithographieanlage (Universität Paderborn)
Ausgeschrieben wird ein Laserlithographiesystem zur Herstellung von optischen Wellenleitern auf Lithiumniobatbasis. Das Gerät soll Lithiumniobat-Chips mit einer Größe von bis zu 100 mm x 100 mm behandeln können. Die detaillierte Leistungsbeschreibung entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen (Dokument: Kriterienkatalog). Ansicht der Beschaffung »
2018-08-08   Maskenloses Lithographiegerät (Maskenloses Laserlithographiegerät)
Der Auftrag umfasst die Lieferung und Installation eines Laser basierten Direktschreib-Lithografiesystems im Reinraum der NaMLab gGmbH in der ersten Etage eines Büro- und Laborgebäude in 01187 Dresden, Nöthnitzer Str. 64. Das Gerät soll als eigenständiges und integriertes System für die maskenlose Belichtung von Fotolacken auf Halbleitersubstraten und Quarz-Masken bis 6 x 6 Zoll2 Größe verwendet werden. Ansicht der Beschaffung »
2015-08-20   Uni-HD.2015.957-Direktschreibender Laserlithograph_KIP (Universität Heidelberg)
Ausgeschrieben wird die Lieferung, Installation, Einweisung und betriebsfertige Übergabe inkl. Funktionstest und Abnahme eines maskenlosen Aligners bzw. direktschreibenden Laserlithographen, der eine strukturgebende Belichtung von Fotolack erlaubt. Das System muss hierbei die Möglichkeiten eines traditionellen Maskenschreibers (direktschreibender Laserlithograph) sowie eines traditionellen Maskenpositionierers (Mask-Aligner) in einem Gerät vereinen. Dies bedeutet, dass das System einerseits die … Ansicht der Beschaffung »