PECVD System

Fraunhofer-Gesellschaft

Auftragsgegenstand, CPA-Nummer: CPV: 31712000. PECVD System, Specification: The Fraunhofer Society - one of the leading research organizations in Europe and its Institute for Microelectronic Circuits and Systems in Munich intend to purchase a PECVD system. The desired system is ideally suited for the development of microsystem applications and pilot scale production, where wafer processing has to be very flexible with high performance. The system consists of one or more process units and multiprocessing robotic for wafer handling (100, 150 mm substrates). All units are in a compact system/cluster to minimize cleanroom space requirements. Ease of system adaptions and multi-process sequence flexibility are necessary features. CVD, PECVD, PECVD oxide, PECVD nitride, deposition, passivation layer, waferprocessing, wafer handling, silicon, substrate, microsystem, MEMS, innovative equipment, leading-edge technology.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2000-08-04. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2000-07-06.

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2000-06-28 Auftragsbekanntmachung
2001-05-14 Bekanntmachung über vergebene Aufträge
Auftragsbekanntmachung (2000-06-28)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: PECVD System
Volltext:
Auftragsgegenstand, CPA-Nummer: CPV: 31712000. PECVD System, Specification: The Fraunhofer Society - one of the leading research organizations in Europe and its Institute for Microelectronic Circuits and Systems in Munich intend to purchase a PECVD system. The desired system is ideally suited for the development of microsystem applications and pilot scale production, where wafer processing has to be very flexible with high performance. The system consists of one or more process units and multiprocessing robotic for wafer handling (100, 150 mm substrates). All units are in a compact system/cluster to minimize cleanroom space requirements. Ease of system adaptions and multi-process sequence flexibility are necessary features. CVD, PECVD, PECVD oxide, PECVD nitride, deposition, passivation layer, waferprocessing, wafer handling, silicon, substrate, microsystem, MEMS, innovative equipment, leading-edge technology.
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Ort der Leistung
München, Kreisfreie Stadt 🏙️
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Ausschreibung
Art des Auftrags: Lieferauftrag
Verordnung: Europäische Gemeinschaften
Originalsprache: Deutsch 🗣️

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Vergabekriterien
Entfällt
Angebotsart: Nicht definiert
Art des öffentlichen Auftraggebers: Körperschaften

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer-Gesellschaft
Land: Deutschland 🇩🇪

Referenz
Daten
Veröffentlichungsdatum: 2000-07-06 📅
Empfangsdatum: 2000-06-28 📅
Absendedatum: 2000-06-28 📅
Einreichungsfrist: 2000-08-04 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer (Legacy): 82904-2000
ABl. S-Ausgabe: 127/2000

Objekt
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme 📦
Quelle: OJS 2000/S 127-082904 (2000-06-28)
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2001-05-14)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Vergebene Aufträge

Verfahren
Verfahrensart: Vergebene Aufträge
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Angebotsart: Gesamtangebot

Referenz
Daten
Veröffentlichungsdatum: 2001-05-18 📅
Empfangsdatum: 2001-05-14 📅
Absendedatum: 2001-05-09 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer (Legacy): 65572-2001
ABl. S-Ausgabe: 95/2001
Verweist auf Bekanntmachung: 82904-2000

Objekt
Zuschlagsdetails
Erteilter Auftrag: Auftragnehmer: Unaxis Deutschland, D-München.
Quelle: OJS 2001/S 095-065572 (2001-05-14)