2024-07-25   Z.EW3 Abschnitt 4: Sixenbachtal - Galgenberg (Zweckverband Landeswasserversorgung)
Lieferung Stahlform- und Ausbaustücke sowie Verbindungsmittel für Isolierflanschverbindungen DN600 und kleiner PN 25 bzw. PN 16 Ansicht der Beschaffung »
2024-06-24   Rahmenvertrag zur Lieferung von Leuchten, Leuchtmitteln, Elektroinstallationsbedarf (Stadt Chemnitz, Hauptamt Abt. Zentrale Dienste /Submission)
Rahmenvertrag mit einem Wirtschaftsteilnehmer zur Lieferung von Leuchten, Leuchtmitteln und Elektroinstallationsbedarf für Ämter und Einrichtungen, Schulen, Kindertagesstätten, Horte sowie Sportstätten und Bäder der Stadtverwaltung Chemnitz Ansicht der Beschaffung »
2007-05-15   Isolierteile (Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.)
Bezeichnung des Auftrags durch den Auftraggeber: Neubau Max-Planck-Institut für Herz-und Lungenforschung. Wärmedämmung für haustechnische Anlagen. Ansicht der Beschaffung »
2006-07-13   Isolierteile (Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., Max-Planck-Institut für Plasmaphysik (IPP))
Bezeichnung des Auftrags durch den Auftraggeber: GFK-Formteile der elektrischen Isolation der Jointgehäuse. Die GFK-Formteilen dienen der Isolation der gesamten Oberfläche sog. zusammengesetzter Jointgehäuse, die im wesentlichen als Zylinder mit den Maßen ø120 x55 mm und ø55 x250 mm beschrieben werden können. Die vollständige Isolierung jedes Joints besteht aus mehreren GFK-Formteilen. Die GFK-Formteile müssen für eine Spannung von 13 kV DC in Heliumatmosphäre im Druckbereich von 10-6 bis 1000 mbar und … Ansicht der Beschaffung »
2001-09-08   LPCVD-Anlage (Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.)
Auftragsgegenstand, CPA-Nummer: CPV: 29560000, 31650000, 32150000, 73000000. Vertikale LPCVD-Anlage (300 mm Wafergröße) zur Abscheidung von Polysilicium und Siliciumnitrid. FhG IIS-B, Abteilung Technologie. Abscheidung von Polysilicium- (dotiert) und Siliciumnitridschichten mittels LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) als Gatematerial oder dielektrische Isolierung in der Halbleitertechnologie, insbesondere für integrierte Schaltungen der 0,13 ìm Technologie. Vertikales LPCVD-System, insgesamt … Ansicht der Beschaffung »