2018-11-231 pc. Furnace for LPCVD (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
The FhG ISIT plans to purchase a “Vertical LPCVD System” with 2 tubes or “2 Vertical LPCVD System". One for the deposition of TEOS and the other tube for the deposition of Ge and phosphor doped Si. New and used equipments are permitted.
It should be a automated vertical furnace system designed for min. 100 process wafers with 200 mm diameter. The exhaust vent line for process gas must be connectable to exhaust gas treatment equipment (e.g. scrubber).
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2012-10-24NiPdAu-Anlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Die zu beschaffende Anlage dient zur Erzeugung von metallischem Oberflächenbeschichtungen für die Aufbau- und Verbindungstechnik auf nasschemischem Wege für die Entwicklung komplexer Baugruppen. Dabei liegt der Fokus auf multifunktionalen Oberflächen, an denen verschiedene Verbindungstechniken (Löten- Al- und Au- Drahtbonden, Kleben, Schaltkontakte) ausgeführt wreden können. Ziel ist es, in dieser Anlage den neuesten technischen Stand im Bereich Oberflächenfinish auf Nickel oder Palladium und zum Anderen …
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