Plasma-unterstützte Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage

Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. - Max-Planck-Institut für Intelligente Systeme

Lieferung und Installation einer Plasma unterstützte Atomic Layer Deposition (ALD) Anlage. Die Anlage ist so konzipiert, dass sowohl Plasma-unterstützte (PE) als auch Thermische (T) ALD möglich sind. Abgeschieden werden Dünnschichten insbesondere aus Oxyden, Nitriden und Metallen.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-01-16. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2012-11-26.

Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Wer?

Wie?

Wo?

Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2012-11-26 Auftragsbekanntmachung
2013-03-26 Bekanntmachung über vergebene Aufträge