Nanolithographiesystem

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Nanolithographiesystem bestehend aus Electron Beam Exposure System und CD-SEM Elektronenstrahlbelichtungsanlage – Ausrüstung zum Belichten von Elektronen-strahlresists auf Waferlevel für MEMS/NEMS und Nanoelektronik. CD-SEM (spezielles Rasterelektronenmikroskop): Ausrüstung zur automatisierten Kontrolle der lateralen Abmessungen und Toleranzen von Strukturen auf Waferlevel für MEMS/NEMS und Nanoelektronik mittels Elektronenmikroskopie.

Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-08-26. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-07-25.

Wer?

• • Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Wie?

• • Elektronenmikroskope › Rasterelektronenmikroskope
• • Elektronenmikroskope › Durchstrahlungs-Elektronenmikroskope