Nanolithographiesystem

Fraunhofer Gesellschaft e.V.

Nanolithographiesystem bestehend aus Electron Beam Exposure System und CD-SEM Elektronenstrahlbelichtungsanlage – Ausrüstung zum Belichten von Elektronen-strahlresists auf Waferlevel für MEMS/NEMS und Nanoelektronik. CD-SEM (spezielles Rasterelektronenmikroskop): Ausrüstung zur automatisierten Kontrolle der lateralen Abmessungen und Toleranzen von Strukturen auf Waferlevel für MEMS/NEMS und Nanoelektronik mittels Elektronenmikroskopie.

Deadline

Die Frist für den Eingang der Angebote war 2013-08-26. Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2013-07-25.

Wer? Wie? Wo?
Geschichte der Beschaffung
Datum Dokument
2013-07-25 Auftragsbekanntmachung
2013-12-04 Ergänzende Angaben
Auftragsbekanntmachung (2013-07-25)
Objekt
Umfang der Beschaffung
Titel: Mikroskope
Menge oder Umfang: Je 1 Stück.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Mikroskope 📦

Verfahren
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren
Angebotsart: Angebot ausschließlich für ein Los
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft e.V.
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München

Referenz
Daten
Absendedatum: 2013-07-25 📅
Einreichungsfrist: 2013-08-26 📅
Veröffentlichungsdatum: 2013-07-30 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2013/S 146-253612
ABl. S-Ausgabe: 146
Zusätzliche Informationen
Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nichtberücksichtigte Angebote (VOL/A § 22 EG). Die Nutzung der Plattform www.deutsche-evergabe.de ist kostenpflichtig.

Objekt
Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Nanolithographiesystem bestehend aus Electron Beam Exposure System und CD-SEM Elektronenstrahlbelichtungsanlage – Ausrüstung zum Belichten von Elektronen-strahlresists auf Waferlevel für MEMS/NEMS und Nanoelektronik. CD-SEM (spezielles Rasterelektronenmikroskop): Ausrüstung zur automatisierten Kontrolle der lateralen Abmessungen und Toleranzen von Strukturen auf Waferlevel für MEMS/NEMS und Nanoelektronik mittels Elektronenmikroskopie.
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Losnummer: 1
Bezeichnung des Loses: Elektronenstrahlbeschichtungsanlage
Kurze Beschreibung:
Das Fraunhofer ENAS arbeitet und forscht auf den Gebieten Nanoelektronik und MEMS/NEMS. Für die Erforschung, Entwicklung und Anwendung von neuen Funktionsprinzipien, Prozessen und Devices ist die Anschaffung einer Ausrüstung geplant, die es ermöglicht, Strukturen bis unter 20 nm im Resist zu erzeugen (isolierte Struktur). Die Strahlenergie für die Resistbearbeitung soll dabei mindestens 50 kV betragen. Dabei ist es besonders wichtig, dass Substrate mit unterschiedlichsten Dimensionen (unterschiedliche Waferdicken: bis mindestens 1,2 ... 1,5 mm; Durchmesser: 4 Zoll, 150 mm und 200 mm) bearbeitet werden können und dass die entstehenden Resiststrukturen auch für eine Strukturübertragung mittels nachfolgender, moderner Strukturübertragungsprozesse (plasmabasiert) in unterschiedlichste Schichtmaterialien geeignet sind.
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Menge oder Umfang: 1 Stück.
Losnummer: 2
Bezeichnung des Loses: Rasterelektronenmikroskop
Kurze Beschreibung:
Das Fraunhofer ENAS arbeitet und forscht auf den Gebieten Nanoelektronik und MEMS/NEMS. Für die Erforschung, Entwicklung und Anwendung von neuen Funktionsprinzipien, Prozessen und Devices ist die Anschaffung einer Ausrüstung geplant, die es ermöglicht, Strukturen bis unter 20 nm, auch im Resist effizient zu bewerten. Dabei ist es besonders wichtig, dass Substrate mit unterschiedlichsten Dimensionen (Waferdicke, Durchmesser) zerstörungsfrei charakterisiert werden können. Dieses Rasterelektronmikroskop zur Vermessung der kritischen Dimensionen (Critical Dimension Scanning Electron Microscope = CD-SEM) soll es erlauben, die Strukturbreiten, auch im Resist automatisiert zu vermessen. Das setzt eine sehr anspruchsvolle Technik voraus, da es um sehr kleine Strukturen geht, organischer Resist beim Messen möglichst nicht deformiert werden darf und die statistischen Untersuchungen eine stabile hochautomatisierte Lösung erfordern.
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Es werden Varianten akzeptiert
Dauer: 12 Monate
Referenznummer: BM 934/242865/cl-Ols
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: Chemnitz.

Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen
Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung: — Firmenprofil.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
— Umsätze der letzten 3 Geschäftsjahre,
— Eigenerklärung über das ordnungsgemäße Abführen von Steuern und Sozialabgaben,
— Eigenerklärung, dass kein Insolvenzverfahren in Eröffnung ist, eröffnet wurde oder mangels Masse abgelehnt wurde,
— Eigenerklärung, dass nachweislich keine schweren Verfehlungen begangen wurden, die die Zuverlässigkeit als Bewerber in Frage stellen.
Technische und berufliche Fähigkeiten:
— Komplette Kundenreferenzliste von bereits ausgelieferten Geräten für Industrie und Forschung, nicht älter als 3 Jahre.
Auftragsausführung
Wichtigste Finanzierungsbedingungen und Zahlungsmodalitäten und/oder Verweis auf die einschlägigen Bestimmungen, die sie regeln: Siehe Verdingungsunterlagen.
Rechtsform der Gruppe von Wirtschaftsteilnehmern, an die der Auftrag vergeben werden soll: Selbstschuldnerisch haftend mit bevollmächtigtem Vertreter.
Sonstige besondere Bedingungen:
Die unter III.2 geforderten Unterlagen sind spätestens bis zu dem unter IV 3.4 genannten Termin vollständig vorzulegen. Unvollständigkeit kann zum Ausschluss führen.
Bitte laden Sie Ihre Unterlagen auf die elektronische Plattform www.deutsche-evergabe.de.

Verfahren
Mindestzahl der Bewerber: 3
Höchstzahl der Bewerber: 5
Sprachen
Sprache: Deutsch 🗣️
Englisch 🗣️

Öffentlicher Auftraggeber
Identität
Andere Art des öffentlichen Auftraggebers: Other
Kontakt
Kontaktperson: Carla Lönz
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Name: Fraunhofer Gesellschaft über deutsche eVergabe
Postanschrift: Wilhelmstr. 20-22
Postort: Wiesbaden
Postleitzahl: 65185
URL für weitere Informationen: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏
Name: Fraunhofer Gesellschaft über deutsche eVergabeportal Deutsche eVergabe
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de 🌏

Referenz
Kennungen
Vom öffentlichen Auftraggeber vergebene Referenznummer: BM 934/242865/cl-Ols

Ergänzende Informationen
Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemoblerstr. 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 531123
Land: Deutschland 🇩🇪
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I 1 genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Satz1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.
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Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Postanschrift: Heinemannstr. 2
Postleitzahl: 53175
Quelle: OJS 2013/S 146-253612 (2013-07-25)
Ergänzende Angaben (2013-12-04)
Objekt
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Ergänzende Angaben

Referenz
Daten
Absendedatum: 2013-12-04 📅
Einreichungsfrist: 2013-12-22 📅
Veröffentlichungsdatum: 2013-12-06 📅
Kennungen
Bekanntmachungsnummer: 2013/S 237-411510
Verweist auf Bekanntmachung: 2013/S 146-253612
ABl. S-Ausgabe: 237
Quelle: OJS 2013/S 237-411510 (2013-12-04)