2019-04-151 St. Hybrid-SALD-Anlage (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Die Investitionsmaßnahme umfasst eine modulare und flexible Hybrid-SALD-Beschichtungsplattform zur zukünftigen Kombination unterschiedlicher Beschichtungstechnologien (Hybrid-Aspekt) mit örtlicher Hochdurchsatz-Atomlagenabscheidung (SALD-Aspekt). Hierdurch sollen optische und elektrische Dickschichtsysteme über 500 nm auf 2D- und 3D-Substraten realisiert werden. Wesentlich ist dabei eine flexible und homogene Gasraumtrennung, mit der unterschiedliche Arbeitsdrücke realisiert werden, die den Einsatz …
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2019-03-27Spin Lift-off Prozessor (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Im Rahmen der Beschaffung soll ein Spin Lift-off Prozessor beschafft werden. Die Anlage sollte in modularer Bauform erstellt sein. Dies ist aber kein Ausschlußkriterium. Die Größe der Anlage darf folgende Werte nicht überschreiten: B (mit Handlingsystem) x T (mit Handlingsystem) x H (mit FFU) (mm) ca. 1 000 (2000) x 1500 (1800) x 2000 (2700).
Der verwendete Prozess sollte mit Hochdrucksystem und Megasonicsystem funktionieren. Als Prozesschemikalien sind NMP oder DMSO und ein IPA-Spülprozess vorgesehen. …
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2019-03-15Triple-Quadrupol-Massenspektrometer (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Ausgeschrieben wird ein Triple-Quadrupol-Massenspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) zur Ultraspurenanalyse vorrangig in siliziumhaltigen Proben, sowie zur Kopplung mit einem Laserablationssystem.
Es soll ein funktionsfähiger Messplatz inklusive Aufbau, Inbetriebnahme sowie Training von Nutzern angeboten werden. Nachfolgend sind die Systemspezifikationen beschrieben. Sofern nicht anderweitig beschrieben, sind alle Spezifikationen im Rahmen der Abnahme nach erfolgter Installation vor Ort …
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2019-02-14Siliziumtiefenätzsystem (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Das Geschäftsfeld „Mikro-Verfahrenstechnik“, welches Verfahren, Prozesse und Services für die mikroelektronische und mikromechanische Fertigung anbietet, sowie das Geschäftsfeld „MEMS-Anwendungen“, fokussiert auf Design, Entwicklung und Herstellung von MEMS-Komponenten und Systemen, können durch den zukünftig höheren Qualitätsstandard, der durch den Kauf eines neuen Silizium Tiefätzsystems erzielt wird, insbesondere ihr Angebot bei den MEMS-Technologie-Plattformen (poly-Si MEMS und piezo-MEMS) und der …
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2019-02-08Lithographie-Stepper (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Das Fraunhofer ISIT plant im Rahmen des Projektes „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ (FMD) des BMBF für den MEMS Reinraum die Beschaffung eines neuen oder eines vom Hersteller refurbishten Projektions-Belichters (Stepper), mit dem die Belichtung von Fotolacken auf 8-Zoll Silizium Wafern erfolgen soll.
Das Beladen des Steppers mit Wafern muss vollautomatisch aus Wafer Carriern erfolgen und sowohl die Justage, Fokussierung und Belichtung innerhalb der Anlage muss vollautomatisch geschehen. Das …
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2019-01-313D Röntgencomputertomograph (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Für die Erweiterung des Festkörperanalytischen Labors der Abteilung MWB soll am Fraunhofer-Institut für Bauphysik IBP ein Computertomograph zur dreidimensionalen Strukturanalyse von verschiedenen Baustoffen angeschafft werden.
Mit dem Gerät sollen vorrangig poröse Baustoffe zerstörungsfrei untersucht werden und dabei die Aufnahme von 2D sowie 3D-Bildern mit einer hohen Auflösung in einer hohen Geschwindigkeit möglich sein. Ziel dabei ist es, die Mikrostruktur der Baustoffe zu visualisieren. Weiterhin …
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2019-01-08Evaporator (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Kurt J. Lesker Company Ltd.
2018-12-06Beschaffung eines GPU Cluster (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Das Competence Center für High Performance Computing am Fraunhofer ITWM befasst sich mit der Entwicklung neuer Algorithmen zur Beschleunigung von Deep Learning Verfahren, der Entwicklung HPC kompatibler Entwicklungsumgebungen und bietet Schulungen auf dem System an. Von besondere Bedeutung ist deshalb die Skalierbarkeit des Systems über viele GPU´s hinweg. Da es sich um ein System ausschließlich für Forschung, Lehre und Weiterbildung handelt sollen in dem System NVIDIA´s TITAN V Grafikkarten zum Einsatz kommen.
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2018-10-26Signal- und Spektrumanalysesetup (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Es soll ein Signalanalysator beschafft werden. Dieser dient der Validierung verschiedener signalerzeugender Hardwarekomponenten und Bauteilgruppen. Die erzeugten Signale sollen mit Hilfe des Signalanalysators gemessen und analysiert werden. Die Signalanalyse umfasst die Analyse der spektralen Anteile, Transientenanalyse, Zeitanalyse, sowie Untersuchung von Chirpsequenzen, damit eine tiefergehende Beurteilung der Funktionsfähigkeit der Hardwarekomponenten vorgenommen werden kann.
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2018-10-12Rasterelektronenmikroskop (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Die nachfolgende Spezifikation beschreibt die Anforderungen an ein Rasterelektronenmikroskop mit einen Analysesystem bestehend aus EDS und EBSD. Das Rasterelektronenmikroskop mit dem EDS\EBSD-System soll zur Charakterisierung von Schichten und Schichtstapeln, vordergründig auf Siliziumwaferstücken genutzt werden. Verwendungsort des nachfolgend spezifizierten Rasterelektronenmikroskops mit dem EDS\EBSD-System wird das Physikalische Fehleranalyselabor der Forschungseinrichtung sein.
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