2012-05-14PECVD-Anlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Eine ICP PECVD-Anlage mit einer vollautomatischen Transferstation und einer Vakuum-Kassettenstation für die Abscheidung von leitenden und dielektrischen Schichten auf Halbleiterscheiben. Für spezielle Anwendungen sollte es auch möglich sein, kurzfristig eine Glove-Box um die Vakuum-Kassettenstation anzubringen, um Scheiben in vollständiger Inertgasatmosphäre bearbeiten zu können. Weiterhin ist zu einem späteren Zeitpunkt geplant, an die Transferstation eine ALD-Kammer (atomic layer deposition) …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Sentech
2011-12-16Umbau Nasschemie-Anlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
— Halbautomatische Anlage zum Reinigen von 100, 150 und 200 mm Siliciumscheiben,
— Bau einer Nassbank zum Entwickeln von Photolack,
— Bau einer Absaughaube über bereits vorhandener Ätzbank,
— Aktualisierung einer vorhandenen Caro und BOE Reinigungsbank,
— Aktualisierung einer vorhandenen DI-Wasser Spülbank und Abbau bzw. Umbau einer vorhandenen Nassbank zum Ansetzen verschiedener Reinigungs- und Ätzchemikalien auf Basis von Bechergläsern bestehend aus 3 Prozess- und 3 DI-Wasserbecken,
— Demontage einer …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Puerstinger High Purity Systems GmbH
2011-12-12Niederdruck-Gasphasenabscheidungssystem (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Ein vertikales Niederdruck-Gasphasenabscheidungssystem für die Abscheidung von Polysiliciumschichten im Dickenbereich von 10 nm bis 2 μm auf Siliciumscheiben mit maximal 200 mm Scheibendurchmesser und vorzugsweise einer Batchgröße von 25 Scheiben. Um für die dotierte Abscheidung eine möglichst hohe Homogenität des spezifischen Widerstands, sowohl über die Scheibe, als auch über das Boot erreichen zu können, ist ein fortschrittliches Gasinjektionssystem und eine Scheibenrotation wünschenswert. Da wir vor …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:centrotherm thermal solutions GmbH & Co. KG
2011-11-18FuE-Kristallisationsanlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Die Kristallisationsanlage ist als FuE-Anlage zur gerichteten Erstarrung von Solar-Silicium in einem Tiegel unter Inertgasatmosphäre mit einem Mehrheizersystem konzipiert. Die Anlage soll dahingehend ausgelegt werden, dass bis zu 30 kg Silicium in Tiegeln aus SiO2 bzw. Si3N4 mit Innenabmessungen von 220 x 220 x 226 mm3 nach dem Vertical Gradient Freeze –Verfahren kristallisiert werden können.
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:PVA TePla AG
2011-10-25Diffusionsofen (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Ein Diffusionsofen, bestehend aus 4 horizontalen Rohren für Scheibendurchmesser bis 200 mm und Batchgrößen bis 100 Stück Siliciumscheiben. Eine Konfiguration, bestehend aus trockener Oxidation, feuchter Oxidation, POCl3 Dotierung und Formiergastemperung wird angestrebt. Aufgrund von Forschungsaufgaben müssen ziemlich unterschiedliche Oxidationsrezepte in ein und demselben Rohr gefahren werden. Daher ist eine hohe Flexibilität gefordert. Ein weiterer bedeutender Faktor, besonders in der Forschung, ist die …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:centrotherm thermal solutions GmbH & Co. KG