Anbieter: FHR Anlagenbau GmbH

8 archivierte Beschaffungen

Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter FHR Anlagenbau GmbH erwähnt wird

2023-04-11   Magnetron-Sputter-System (Technische Universität Dortmund)
Beschafft werdem soll ein konfokales DC/RF Magnetron-Sputter-System (Co-Sputter-System). Durch das System sollen durch parallelen Betrieb multipler konfokal angeordneter Sputterquellen gezielt funktionale Heterostrukturen zur Durchführung von innovativen anwendungs- und grundlagenorientierten Forschungsprojekten abgeschieden werden können. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: FHR Anlagenbau GmbH
2023-02-10   A1465_2023 - SE-IP – CatLab - Konfokale Sputterlanlage & Transferstation (Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH (HZB))
Ziel dieser Ausschreibung ist die Beschaffung einer Konfokalen Sputteranlage zur Deposition von Metallen und co-Deposition von Metalllegierungen mit 3 / 4 Quellen, Substratheizung bis 800°C, Integration des bestehenden Substrathandlers sowie Transferstation zur Probenübernahme aus Bestandscluster, gemäß Leistungsbeschreibung und Vergabeunterlagen Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: FHR Anlagenbau GmbH
2022-08-26   Cluster-Tool (AMO, Gesellschaft für Angewandte Mikro- und Optoelektronik mbH)
Zur Bearbeitung eines Forschungsprojektes benötigt die AMO ein Cluster-Tool zur Deposition von homogenen Metall-, Isolator- und Halbleiterschichten, insbesondere von c-Achsen-orientiertem Aluminium-Nitrid. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: FHR Anlagenbau GmbH
2021-06-18   Aufdampfanlage (AMO, Gesellschaft für Angewandte Mikro- und Optoelektronik mbH)
Zur Bearbeitung zweier Forschungsprojekte benötigt die AMO eine Elektronenstrahlverdampferanlage zur Deposition von homogenen Metall- und Isolatorschichten. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: FHR Anlagenbau GmbH
2020-03-27   Sputter Clustertool (Albert-Ludwigs-Universität Freiburg)
Lieferung, Aufbau und Inbetriebnahme von einer Depositionsanlage (Kathodenzerstäubungssystem) zur Prozessierung von unterschiedlichsten Substraten mittels (konfokalem) DC- und RF- Sputtern im Sputter-down-Modus. Komplettsystem zur kontaminationsfreien Abscheidung von Dünnschichten. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: FHR Anlagenbau GmbH
2017-09-22   Horizontal Single Tube LPCVD Furnance (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Horizontal Single Tube LPCVD Furnance Horizontal Low Pressure Chemical Vapor Deposition Furnace (LPCVD) for coating of silicon carbide (SiC) and boron nitride (BN) on a winding fibre. Ansicht der Beschaffung »
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2015-09-29   Sputteranlage zur Beschichtung von Halbleitersubstraten (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Sputteranlage zur Beschichtung von Halbleitersubstraten: Das Fraunhofer Institut für Solare Energiesysteme in Freiburg entwickelt Solarzellen der nächsten Generation. Für die Prozessierung der Solarzellen soll eine Beschichtungsanlage für Metalle, leitfähige Oxide und dielektrische Antireflexschichten angeschafft werden, in welcher W, Si und Mo basierte Schichten in folgenden Systemen hergestellt werden können: — W-Si-N: Stöchiometrie ca. W0.4Si0.4N0.2, DC-Prozess reaktiv; — W-C: RF-Prozess nicht … Ansicht der Beschaffung »
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2014-10-02   SI-Dünnfilmbeschichtungsanlage (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
SI-Dünnfilmbeschichtungsanlage. Es soll eine Zweikammer-Sputteranlage beschafft werden. Zu den geforderten Funktionen des Equipments gehört die Abscheidung metallischer Gläser von Legierungstargets sowie die Abscheidung nanoskalierter (Multi-)Schichtsysteme auf unterschiedlichen Substraten der Mikrosystemtechnik und Mechatronik. Mit der Anlage sollen in 2 getrennten Prozesskammern Metalle, Metalllegierungen, Keramiken, Oxide und andere Halbleiter typische Materialen abgeschieden werden. Die Sputteranlage … Ansicht der Beschaffung »
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