Anbieter: MueTec GmbH
2 archivierte Beschaffungen
MueTec GmbH war in der Vergangenheit ein Lieferant von laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser), navigationsinstrumente und meteorologische Instrumente und meteorologische Instrumente.
Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter MueTec GmbH erwähnt wird
2020-01-28
Overlay Measuring System (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
This specification describes the requirements for a process tool to be used for wafer fabrication at the Fraunhofer IPMS. The systems will be used for the processing of MEMS wafers in a CMOS compatible cleanroom class 10 (approximately class 4 EN ISO 14644-1) production environment. Ansicht der Beschaffung »
This specification describes the requirements for a process tool to be used for wafer fabrication at the Fraunhofer IPMS. The systems will be used for the processing of MEMS wafers in a CMOS compatible cleanroom class 10 (approximately class 4 EN ISO 14644-1) production environment. Ansicht der Beschaffung »
2013-01-08
CD-Messplatz (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Beschaffung einer optischen Messapparatur zur Bestimmung kritischer Dimensionen (CD), des Overlays, von Defekte und Schichtdicken (optional) auf Wafern mit Scheibendurchmesser von 3“ bis zu 200 mm. Für unsere Anwendungen benötigen wir ein automatisiertes Prozesskontrollsystem zur Bestimmung von kritischen Abmessungen, der Überlagegenauigkeit, von Defekten und Schichtdicken auf Silicium- und Siliciumcarbidwafern mit Durchmessern von 3“ bis 200mm und auf Photolithographiemasken und –reticles. Ansicht der Beschaffung »
Beschaffung einer optischen Messapparatur zur Bestimmung kritischer Dimensionen (CD), des Overlays, von Defekte und Schichtdicken (optional) auf Wafern mit Scheibendurchmesser von 3“ bis zu 200 mm. Für unsere Anwendungen benötigen wir ein automatisiertes Prozesskontrollsystem zur Bestimmung von kritischen Abmessungen, der Überlagegenauigkeit, von Defekten und Schichtdicken auf Silicium- und Siliciumcarbidwafern mit Durchmessern von 3“ bis 200mm und auf Photolithographiemasken und –reticles. Ansicht der Beschaffung »