2014-11-17Forschungsanlage zum reaktiven Ionenstrahl-Ätzen (RIBE-reactive ion beam etching) (Ernst-Abbe-Hochschule Jena)
Die reaktive Ionen-Strahl Ätzanlage (kurz „RIBE“) (RIBE: reactive ion beam etching) soll zur Übertragung von mikro- und nanostrukturierten Ätzmasken in Substratmaterialien angewendet werden. Die Anlage muss wahlweise im rein physikalischen Modus (reines „IBE“ ion beam etching, ohne chemisch reaktive Komponente) oder im reaktiven Modus (RIBE-Modus) betrieben werden können. Als Ätzmasken sollen lithografisch strukturierte Resistmaterialien, strukturierte Metallmasken (z. B. Chrommasken) oder Mikro- und …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:NTG Neue Technologien GmbH & Co. KG