Anbieter: NTG Neue Technologien GmbH & Co. KG
5 archivierte Beschaffungen
NTG Neue Technologien GmbH & Co. KG war in der Vergangenheit ein Lieferant von elektrische Maschinen, Geräte, Ausstattung und Verbrauchsartikel; Beleuchtung, elektrische Ausrüstung und maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion.
Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter NTG Neue Technologien GmbH & Co. KG erwähnt wird
2023-06-27
Ion beam processing plant - PR227466-2660-W (Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12)
Ion beam processing plant Ansicht der Beschaffung »
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2023-04-14
Streukammer (Johannes Gutenberg-Universität Mainz)
Streukammer gem. Leistungsbeschreibung Ansicht der Beschaffung »
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2021-10-05
Einkoppelschleifen (GSI Helmholtzzentrum für Schwerionenforschung GmbH)
Rahmenvertrag über Einkoppelschleifen über 4 Jahre Ansicht der Beschaffung »
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2021-05-28
2 Stk. normalleitende cw betriebene 108 MHz IH-Kavitäten (GSI Helmholtzzentrum für Schwerionenforschung GmbH)
Zwei normalleitende cw betriebene 108 MHz IH-Kavitäten. Ansicht der Beschaffung »
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2014-11-17
Forschungsanlage zum reaktiven Ionenstrahl-Ätzen (RIBE-reactive ion beam etching) (Ernst-Abbe-Hochschule Jena)
Die reaktive Ionen-Strahl Ätzanlage (kurz „RIBE“) (RIBE: reactive ion beam etching) soll zur Übertragung von mikro- und nanostrukturierten Ätzmasken in Substratmaterialien angewendet werden. Die Anlage muss wahlweise im rein physikalischen Modus (reines „IBE“ ion beam etching, ohne chemisch reaktive Komponente) oder im reaktiven Modus (RIBE-Modus) betrieben werden können. Als Ätzmasken sollen lithografisch strukturierte Resistmaterialien, strukturierte Metallmasken (z. B. Chrommasken) oder Mikro- und … Ansicht der Beschaffung »
Die reaktive Ionen-Strahl Ätzanlage (kurz „RIBE“) (RIBE: reactive ion beam etching) soll zur Übertragung von mikro- und nanostrukturierten Ätzmasken in Substratmaterialien angewendet werden. Die Anlage muss wahlweise im rein physikalischen Modus (reines „IBE“ ion beam etching, ohne chemisch reaktive Komponente) oder im reaktiven Modus (RIBE-Modus) betrieben werden können. Als Ätzmasken sollen lithografisch strukturierte Resistmaterialien, strukturierte Metallmasken (z. B. Chrommasken) oder Mikro- und … Ansicht der Beschaffung »