Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter Oxford Instruments GmbH Plasma Technology erwähnt wird
2012-07-24Plasmaätzanlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Vakuum-Trockenätzanlage für reaktives Ionenätzen (RIE) und/oder Plasmaätzen (PE) von Polymeren, Quarzglas, und anderer Siliziumverbindungen im Einzelbetrieb und Simultanbetrieb beider Elektroden.
— Direktbeladung ohne loadlock, Elektrodengröße,
— schnelle Probenwechselzeiten,
— RIE-, PE- und Simultanbetrieb beider Elektroden,
— Homogenität und Reproduzierbarkeit,
— Auslegung für Fluor-Gase,
— Installations- und Servicebedingungen, Reinraumkompatibilität.
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2012-01-09ALD-Anlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Eine für die Photovoltaik Atomlagenabscheideanlage (Atomic Layer Deposition; ALD) zur Beschichtung von 3D-nanostrukturierten Materialien mit der unter Einwirkung des Precursormaterials Trimethylaluminium in Verbindung mit 1.) Wasser (H2O) und/oder 2.) Ozon (O3) dünne Al2O3 Schichten abgeschieden werden sollen. Unverzichtbar ist dabei eine Reaktorkammer, die eine simultan beidseitige Beschichtung von quadratischen 6“ bzw. runden 8“ Wafern erlaubt.
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2011-07-27Plasmaanlage zum Trockenätzen (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Für unsere Anwendungen benötigen wir eine Cluster bestehend aus einem automatischen Transfersystem für Siliciumscheiben, zwei separaten Kammern für das Ätzen von Dielektrika und metallischen Schichten und einem Modul zum anschließenden Abziehen des Photolacks in Sauerstoffatmosphäre. Um den Anforderungen gerecht zu werden, sind für die Ätzkammern Dielektrika und Metalle ICP-Quellen nötig. Da wir vor allem in der Forschung tätig sind, müssen ziemlich unterschiedliche Ätzrezepte in ein und derselben Kammer …
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