Anbieter: Von Ardenne GmbH

6 archivierte Beschaffungen

Von Ardenne GmbH war in der Vergangenheit ein Lieferant von industrielle Maschinen, maschinen für allgemeine und besondere Zwecke und diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke.

Neuere Beschaffungen, bei denen der Anbieter Von Ardenne GmbH erwähnt wird

2021-06-24   A1003 Erweiterung Koala Sputtertool (Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH (HZB))
Erweiterung einer im Aufbau befindlichen Cluster Beschichtungsanlage mit einem zweiten Sputtermodul inkl. einer weiteren Schleuse inkl. Lieferung, Aufbau und Inbetriebnahme. Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Von Ardenne GmbH
2019-06-14   Cluster Tool for Nanomaterials (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
The planned acquisition comprises a cleanroom compatible cluster tool for sputter deposition and rapid thermal annealing of composite films and multilayers stacks for nanotechnological devices on 200 mm substrates. The main application of the tool is concentrated on film based nanotechologies with a special focus on metal-oxide based devices. The tool should consist of a central handling module, a magazine load lock and two process chambers, which allows the single wafer handling between the process … Ansicht der Beschaffung »
Erwähnte Lieferanten: Von Ardenne GmbH
2017-07-18   Lieferung, Installation, Inbetrieb- und Endabnahme einer Sputteranlage für das Halbleiterlabor der Max-Planck-Gesellschaft (Halbleiterlabor der Max-Planck-Gesellschaft)
Für die Erweiterung der Technologie wird im back-end-of-line Bereich des Halbleiterlabors der Max-Planck-Gesellschaft ein Sputter benötigt. Ziel ist es eine komplette Kupfertechnologie im Prozessbereich zu installieren. Dafür ist das Sputtern des „seed layers“ und der Barrierelage notwendig. Ansicht der Beschaffung »
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2016-11-11   A213 Sputteranlage HEMCP (Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie GmbH (HZB))
Lieferung und Installation einer Sputteranlage. Ansicht der Beschaffung »
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2016-10-06   Sputteranlage (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard beabsichtigt die Neuanschaffung einer Cluster-Sputteranlage für das Beschichten von hauptsächlich 100 mm- und 150 mm-Substraten als Ersatz bzw. technologische Erweiterung vorhandener Gerätschaften. Die neu zu beschaffende Anlage muss das Beschichten mit unterschiedlichen Metallen wie Al, Au, TiW, Ti, Pt, Cr und Ni ermöglichen und muss in sämtlichen Punkten die in Abschnitt 6 aufgeführten Prozessanforderungen gewährleisten. Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen. Sie soll … Ansicht der Beschaffung »
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2015-03-31   200mm Sputter-Cluster-Tool (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Beschaffung Sputter-Clusteranlage (IPMS-Budget-Titel: BEoL.PVD_.01) Beschreibung: Die Anlage(n) muss 5 bis 6 Prozesskammern für die Materialien Ti/TiN, (Al), AlSiCu (Gruppe 1) und AlSiTi, TiAl, Al2O3 (Gruppe 2) bieten. Die Anlage ist für den Einsatz in der Halbleiter-MEMS-Fertigung von 200 mm Si-Substraten in einem ISO 4 CMOS-Reinraum zur Herstellung von Leitbahnen, Diffusionsbarrieren und Oberflächen-MEMS-Strukturen vorgesehen. — Aufbau o 3 Konfigurationen können angeboten werden, in der Reihenfolge … Ansicht der Beschaffung »
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