Das Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS sucht für das Center für Angewandte Mikrostrukturdiagnostik CAM zur elektrischen Charakterisierung und zur elektronenstrahlbasierten Defektlokalisierung an mikroelektronischen Schaltkreisstrukturen ein Rasterelektronenmikroskop (REM), nachfolgend als „Los 1“ bezeichnet, sowie zur mikrostrukturellen Untersuchung von Materialien der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik eine fokussierende Ionenstrahlanlage (FIB) mit integriertem Rasterelektronenmikroskop (REM) als kombinierte Zweistrahlanlage, nachfolgend „Los 2“ genannt.
Deadline
Die Frist für den Eingang der Angebote war 2018-07-11.
Die Ausschreibung wurde veröffentlicht am 2018-06-11.
Anbieter
Die folgenden Lieferanten werden in Vergabeentscheidungen oder anderen Beschaffungsunterlagen erwähnt:
Auftragsbekanntmachung (2018-06-11) Objekt Umfang der Beschaffung
Titel: Rasterelektronenmikroskope
Referenznummer: E_869_226472 ChrPat-golame
Kurze Beschreibung:
Das Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS sucht für das Center für Angewandte Mikrostrukturdiagnostik CAM zur elektrischen Charakterisierung und zur elektronenstrahlbasierten Defektlokalisierung an mikroelektronischen Schaltkreisstrukturen ein Rasterelektronenmikroskop (REM), nachfolgend als „Los 1“ bezeichnet, sowie zur mikrostrukturellen Untersuchung von Materialien der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik eine fokussierende Ionenstrahlanlage (FIB) mit integriertem Rasterelektronenmikroskop (REM) als kombinierte Zweistrahlanlage, nachfolgend „Los 2“ genannt.
Das Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS sucht für das Center für Angewandte Mikrostrukturdiagnostik CAM zur elektrischen Charakterisierung und zur elektronenstrahlbasierten Defektlokalisierung an mikroelektronischen Schaltkreisstrukturen ein Rasterelektronenmikroskop (REM), nachfolgend als „Los 1“ bezeichnet, sowie zur mikrostrukturellen Untersuchung von Materialien der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik eine fokussierende Ionenstrahlanlage (FIB) mit integriertem Rasterelektronenmikroskop (REM) als kombinierte Zweistrahlanlage, nachfolgend „Los 2“ genannt.
Metadaten der Bekanntmachung
Originalsprache: Deutsch 🗣️
Dokumenttyp: Auftragsbekanntmachung
Art des Auftrags: Lieferungen
Verordnung: Europäische Union, mit GPA-Beteiligung
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Rasterelektronenmikroskope📦
Zusätzlicher CPV-Code: Rasterelektronenmikroskope📦 Ionenmikroskope📦 Ort der Leistung
NUTS-Region: Halle (Saale), Kreisfreie Stadt🏙️
Verfahren
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Angebotsart: Angebot für alle Lose
Vergabekriterien
Wirtschaftlichstes Angebot
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Land: Deutschland 🇩🇪
Art des öffentlichen Auftraggebers: Sonstiges
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Postanschrift: Hansastr. 27c
Postleitzahl: 80686
Postort: München
Kontakt
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de🌏
E-Mail: fraunhofer@deutsche-evergabe.de📧
URL der Dokumente: http://www.deutsche-evergabe.de/🌏
URL der Teilnahme: http://www.deutsche-evergabe.de/🌏
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden;
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB);
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden;
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB);
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Objekt Umfang der Beschaffung
Bezeichnung des Loses: Rasterelektronenmikroskop
Losnummer: 1
Kurze Beschreibung:
Die zentrale Funktionalität des Gerätes soll bei einer möglichst hohen Abbildungsqualität bei möglichst geringen Beschleunigungsspannungen und möglichst kleinen Strahlströmen ohne die Nutzung zusätzlicher Potentiale auf der Probenbühne als Gegenfeld liegen. Weiterhin soll auch die Möglichkeit für große Strahlströme bei mittleren Beschleunigungsspannungen gegeben sein, um eine optimale Signalqualität bei elektronenstrahlbasierten Defektlokalisierungen zu gewährleisten. Für Untersuchungen von Schaltkreisstrukturen muss der Einbau eines vorhandenes 6-fach Mikromanipulatorsystems der Firma IMINA Technologies SA und eines vorhandenen DISS5-EBIC Abbildungssystem der Firma Point Electronic GmbH möglich sein.
Die zentrale Funktionalität des Gerätes soll bei einer möglichst hohen Abbildungsqualität bei möglichst geringen Beschleunigungsspannungen und möglichst kleinen Strahlströmen ohne die Nutzung zusätzlicher Potentiale auf der Probenbühne als Gegenfeld liegen. Weiterhin soll auch die Möglichkeit für große Strahlströme bei mittleren Beschleunigungsspannungen gegeben sein, um eine optimale Signalqualität bei elektronenstrahlbasierten Defektlokalisierungen zu gewährleisten. Für Untersuchungen von Schaltkreisstrukturen muss der Einbau eines vorhandenes 6-fach Mikromanipulatorsystems der Firma IMINA Technologies SA und eines vorhandenen DISS5-EBIC Abbildungssystem der Firma Point Electronic GmbH möglich sein.
Dauer: 7 Monate
Beschreibung der Optionen: Service und Wartung, Gewährleistungsverlängerung
Bezeichnung des Loses: FIB-REM Zweistrahlgerät
Losnummer: 2
Kurze Beschreibung:
Der Schwerpunkt des Einsatzbereiches dieses Gerätes liegt dabei in der effizienten nanometerpräzisen Zielpräparation für die elektronenmikroskopische Analyse von Schichtstrukturen und in der Durchmusterung von Defektbereichen in elektronischen und optoelektronischen Halbleiterbauelementen. Hauptanwendungsfelder für diese Anlage werden dabei die Herstellung von präzise positionierbaren, möglichst artefaktfreien und wenige 10 nm dünnen elektronentransparenten Proben für Untersuchungen mittels höchstauflösender Transmissionelektronenmikroskopie sowie die FIB Querschnittspräparation bei gleichzeitiger hochaufgelöster REM Beobachtung kleinster mikroelektronischer IC-Strukturen und entsprechender Defektbereiche sein.
Der Schwerpunkt des Einsatzbereiches dieses Gerätes liegt dabei in der effizienten nanometerpräzisen Zielpräparation für die elektronenmikroskopische Analyse von Schichtstrukturen und in der Durchmusterung von Defektbereichen in elektronischen und optoelektronischen Halbleiterbauelementen. Hauptanwendungsfelder für diese Anlage werden dabei die Herstellung von präzise positionierbaren, möglichst artefaktfreien und wenige 10 nm dünnen elektronentransparenten Proben für Untersuchungen mittels höchstauflösender Transmissionelektronenmikroskopie sowie die FIB Querschnittspräparation bei gleichzeitiger hochaufgelöster REM Beobachtung kleinster mikroelektronischer IC-Strukturen und entsprechender Defektbereiche sein.
Beschreibung der Optionen:
In-situ Lift-out System, BSE-Detektortypen, integrierte Auto-FIB/TEM Routinen, Service und Wartung, Gewährleistungsverlängerung
Ort der Leistung
Hauptstandort oder Erfüllungsort: 06120 Halle (Saale)
Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Informationen Bedingungen für die Teilnahme
Befähigung zur Berufsausübung:
Die nachführend aufgeführten Unterlagen müssen mit dem Angebot vollständig vorgelegt werden. Unvollständige Unterlagen können zum Ausschluss vom Verfahren führen.
Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit:
(1) Firmenprofil mit Angabe der Anzahl der Mitarbeiter;
(2) Angaben zum Umsatz der letzten 3 Jahre;
(3) Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen (siehe Anlage);
(4) Auszug aus dem Gewerbezentralregister gemäß § 150a GewO (wird durch den Auftraggeber angefordert).
Technische und berufliche Fähigkeiten:
(1) Komplette Referenzen (Kontaktdaten) von vergleichbaren Systemen, nicht älter als 3 Jahre
Auftragsausführung
Bedingungen für die Vertragserfüllung:
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Verfahren
Zeitpunkt des Eingangs der Angebote: 23:59
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch 🗣️
Gültigkeitsdauer des Angebots: 2018-08-10 📅
Datum der Angebotseröffnung: 2018-07-12 📅
Zeitpunkt der Angebotseröffnung: 14:00
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden;
— Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB);
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
— Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Name: Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Postort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland 🇩🇪
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Für Mediationsverfahren zuständige Stelle
Name: Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
Postanschrift: Heinemannstraße 2
Postleitzahl: 53175
Dienststelle, bei der Informationen über das Überprüfungsverfahren eingeholt werden können
Name: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe
Postanschrift: Hansastraße 27c
Postort: München
Postleitzahl: 80686
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de📧
Internetadresse: http://www.fraunhofer.de🌏
Quelle: OJS 2018/S 111-252497 (2018-06-11)
Ergänzende Angaben (2018-08-13) Objekt Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Ergänzende Angaben
Gemeinsames Vokabular für öffentliche Aufträge (CPV)
Code: Ionenmikroskope📦
Öffentlicher Auftraggeber Identität
Name des öffentlichen Auftraggebers: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Bekanntmachung über vergebene Aufträge (2018-10-11) Objekt Umfang der Beschaffung
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Metadaten der Bekanntmachung
Dokumenttyp: Bekanntmachung über vergebene Aufträge
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
— Anforderung Unterlagen – erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. – Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§134 GWB) – Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.
Objekt Umfang der Beschaffung
Kurze Beschreibung:
Der Schwerpunkt des Einsatzbereiches dieses Gerätes liegt dabei in der effizienten nanometerpräzisen Zielpräparation für die elektronenmikroskopische Analyse von Schichtstrukturen und in der Durchmusterung von Defektbereichen in elektronischen und optoelektronischen Halbleiterbauelementen. Hauptanwendungsfelder für diese Anlage werden dabei die Herstellung von präzise positionierbaren, möglichst artefaktfreien und wenige 10 nm dünnen elektronen transparenten Proben für Untersuchungen mittels höchst auflösender Transmissionelektronenmikroskopie sowie die FIB Querschnittspräparation bei gleichzeitiger hoch aufgelöster REM Beobachtung kleinster mikroelektronischer IC-Strukturen und entsprechender Defektbereiche sein.
Der Schwerpunkt des Einsatzbereiches dieses Gerätes liegt dabei in der effizienten nanometerpräzisen Zielpräparation für die elektronenmikroskopische Analyse von Schichtstrukturen und in der Durchmusterung von Defektbereichen in elektronischen und optoelektronischen Halbleiterbauelementen. Hauptanwendungsfelder für diese Anlage werden dabei die Herstellung von präzise positionierbaren, möglichst artefaktfreien und wenige 10 nm dünnen elektronen transparenten Proben für Untersuchungen mittels höchst auflösender Transmissionelektronenmikroskopie sowie die FIB Querschnittspräparation bei gleichzeitiger hoch aufgelöster REM Beobachtung kleinster mikroelektronischer IC-Strukturen und entsprechender Defektbereiche sein.
Auftragsvergabe
Datum des Vertragsabschlusses: 2018-08-27 📅
Name: Carl-Zeiss Microscopy GmbH
Postanschrift: Carl-Zeiss Str. 22
Postort: Oberkochen
Postleitzahl: 73447
Land: Deutschland 🇩🇪 Baden-Württemberg🏙️
Gesamtwert des Auftrags: 0.01 EUR 💰
Informationen über Ausschreibungen
Anzahl der eingegangenen Angebote: 4
Ergänzende Informationen Körper überprüfen
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren:
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Informationen zu Fristen für Nachprüfungsverfahren
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).