2019-09-06Maskaligner (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard plant für seinen MEMS-Reinraum, einen weiteren Maskaligner zur Erhöhung der Redundanz und zur Erweiterung des bearbeitbaren Materialspektrums. Zusätzlich zur bestehenden Anlage, welche die Bearbeitung von Substraten mit 100 und 150 mm Durchmesser erlaubt, soll die neue Anlage in der Lage sein auch 200 mm Substrate zu bearbeiten.
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:EV Group E. Thallner GmbH
2017-03-09Cluster-Trockenätzanlage (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard beabsichtigt eine Neuanschaffung einer Cluster-Trockenätzanlage für die Strukturierung von Silizium und dielektrischen Schichten. Die Anlage muss für die Bearbeitung von 100 mm- und 150 mm-Wafern geeignet sein und soll dem 200 mm SEMI MESC Standard entsprechen. Die Anlage soll aus zwei ICP-RIE Kammern bestehen und jeweils über eine eigene Kassettenstation beladen werden. Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen und soll für den Betrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Oxford Instruments GmbH
2017-03-09PECVD-Anlage (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard beabsichtigt die Neuanschaffung einer Parallelplattenreaktor-PECVD-Anlage für das Beschichten von hauptsächlich 100 mm- und 150 mm-Wafern als Ersatz bzw. technologische Erweiterung vorhandener Gerätschaften. Die Anlage muss das Beschichten mit unterscheidlichen PECVD-Schichten wie SiO2 und Si3N4 ermöglichen und ist für einen 3-Schichtbetrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) auszulegen.
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Oxford Instruments GmbH
2016-12-19Automatische Optische Inspektionsanlage (AOI) (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Für die Endkontrolle mikromechanischer Komponenten (MEMS-Chips) plant Hahn-Schickard die Beschaffung einer Automatischen Optischen Inspektionsanlage (AOI). Inspiziert werden sollen vor allem prozessierte Wafer (gesägt oder ungesägt), wobei die maximale Substratgröße 150 mm betragen wird.
Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen. Sie soll außerdem für den Betrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) geeignet sein.
Die Anlage stellt eine voll funktionsfähige Einheit mit allen für eine …
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2016-12-17Hochpräzisionsfräszentrum (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Im Rahmen eines Investitionspakets für neue Aufbautechnik für optische Sensoren und Sensorsysteme wird am Hahn-Schickard-Institut für Mikroaufbautechnik ein neues Hochpräzisionsfräszentrum beschafft. Der Schwerpunkt liegt dabei auf der Herstellung von Spritzguss- und Spritzprägewerkzeugen für optische und mikrooptische Komponenten aus Kunststoff, z. B. Mikrolinsen, Mikrolinsenarrays, diffraktive optische Elemente, hybride Nullbrechkraftelemente aus refraktiven und diffraktiven optischen Elementen, …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Kugler GmbH
2016-10-06Sputteranlage (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard beabsichtigt die Neuanschaffung einer Cluster-Sputteranlage für das Beschichten von hauptsächlich 100 mm- und 150 mm-Substraten als Ersatz bzw. technologische Erweiterung vorhandener Gerätschaften. Die neu zu beschaffende Anlage muss das Beschichten mit unterschiedlichen Metallen wie Al, Au, TiW, Ti, Pt, Cr und Ni ermöglichen und muss in sämtlichen Punkten die in Abschnitt 6 aufgeführten Prozessanforderungen gewährleisten.
Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen. Sie soll …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Von Ardenne GmbH