2019-11-05VE 202 Heizungs- und Kälteanlagen (Deutsches Institut für Ernährungsforschung)
Auf dem Gelände des Deutschen Institut für Ernährungsforschung, Arthur-Scheunert-Allee 114-116 in 14558 Nuthetal ist die Errichtung eines Forschungsneubaus geplant. Die Brutto-Grundfläche aller Ebenen beträgt ca. 5 000 m.
Der Leistungsinhalt dieser Ausschreibung beinhaltet die Lieferung, betriebsfertige Montage, Inbetriebnahme und Programmierung, Durchführung von Messungen einschl. Nachweisen von Heizungs- und Kälteanlagen:
— KG 421 Wärmeerzeugung,
— KG 422 Wärmeverteilung,
— KG 423 Heizflächen und …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Haustechnik Potsdam GmbH
2019-11-0419 22 A8R 118 - Dacharbeitsbühne mit Krananlage für die Werkstatt Freiburg Gleis 624 und 626, DB Regio AG (DB Regio AG (Bukr 12))
Die DB Regio Baden-Württemberg beabsichtigt für die Werkstatthalle Freiburg die Realisierung von 2 Dacharbeitsbühnen (DAB) und 2 Deckenkränen in der aktuell entstehenden Hallenerweiterung mit den beiden Gleisen 624 und 626.
Der gesamte Hallenneubau misst eine Länge von 120 m und eine Breite von 27 m. In der Längsachse der Halle verlaufen durchgehend die Gleise 624 und 626 als Hallengleise. Diese beiden Gleise werden mit Dacharbeitsbühnen und anschließend mit Deckenkränen ausgestattet.
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:project428 GmbH
2019-10-28Laser-Strahlschmelzanlage (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Laser-Strahlschmelzanlage für die additive Verarbeitung metallischer Werkstoffe, welche über eine Laserleistung von mind. 400 W bei sehr kleinem Laserfokusdurchmesser mit bis zu 35 μm und einer Material- bzw. Parameterdatenbank verfügt, welche für eine Zusammenstellung wesentliche Legierungselemente des Periodensystems der Elemente zu einer Legierung einen geeigneten Startparameter für die Verarbeitung dieser Legierung auf der zu beschaffenden Laser-Strahlschmelzanlage auf Basis ausgewählter …
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2019-10-17Electrochemical System (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
The aim of the announced electrochemical system is to etch electrochemically porous silicon layers on silicon wafers in electrolytes containing hydrofluoric acid and alcohol. Homogenous formation of porous silicon layer on full wafer area till wafer edges with variation of thickness and porosity of porous layer not exceeding 15 % is required. The system has to provide batch processing of silicon wafers of square form with dimensions 156 x 156 mm (full-square and optionally pseudo-square) and of round …
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2019-10-11Sputter Clustertool (Albert-Ludwigs-Universität Freiburg)
Lieferung, Aufbau und Inbetriebnahme von einer Depositionsanlage (Kathodenzerstäubungssystem) zur Prozessierung von unterschiedlichsten Substraten mittels (konfokalem) DC- und RF- Sputtern im Sputter-down-Modus. Komplettsystem zur kontaminationsfreien Abscheidung von Dünnschichten.
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2019-09-27Resisttrack DUV (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
As a part of the stratgetic investment project „FMD“, a wafer track for DUV lithography is to be procured. Thereby the lithography at IPMS is significantly improved in terms of the resolution down to 110nm structure size and this also meets the increased technological requirements in the project areas of IPMS for 200mm wafer. The tool should consist of 2 coating modules, 2 developer modules, 9 hotplates (incl. 1 HMDS- hotplates), 5 cool plates for 200mm, a climate controlling system for coating module …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Tokyo Electron Europe Ltd
2019-09-18Automatisierungslinie (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Das Fraunhofer CSP plant ihm Rahmen eines öffentlichen Projektes den Aufbau einer Mess- und Klassifizierungsplattform (MK4.0) und verfolgt dabei 2 maßgebliche Ziele:
1) Aufbau der PV4.0-tauglichen Mess- und Klassifizierungsplattform (MK4) für die mo-dulare Integration von neuen Prozessierungs-/Behandlungs- und Messstationen;
2) Integration von flexiblen Datenschnittstellen und Serverstrukturen für die Entwick-lung von Industrie 4.0 – Datenanalyse und Steuerungsalgorithmen.
Für diese MK4-Plattform ist die …
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2019-09-12Beschaffung eines Hochkeistungskuvertiersystems (Anstalt für Kommunale Datenverarbeitung in Bayern (AKDB))
In den Räumen der Geschäftsstelle Oberfranken, Christian-Ritter- v. -Langheinrich-Str. 12 in 95445 Bayreuth, betreibt die AKDB ihr Produktionsrechenzentrum.
Derzeit steht dort für die maschinelle Kuvertierung folgendes System zur Verfügung:
— 1 x Kern 2 500 – Einfachkuvertierung.
Dieses System soll gegen ein leistungsfähigeres System ausgetauscht werden, welches die AKDB befähigt, die Menge von ca. 400 000 Kuverts im 24-h-Betrieb zu kuvertieren.
Beschaffungsgegenstand ist mithin die Lieferung und …
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2019-09-11Mietvereinbarung Produktionsdrucksysteme (FH Münster)
Ziel der Ausschreibung ist die Ausstattung der Hausdruckereien der FH Münster an den Standorten Münster und Steinfurt mit Produktionsdruckmaschinen. Hierfür soll eine Mietvereinbarung für 48 oder 60 Monate mit der Option einer 12 monatigen Verlängerung geschlossen werden.
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:RICOH Deutschland GmbH
2019-09-04Single-Wafer Nassätzanlage (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Fraunhofer IMS requires a new or refurbished fully automated spin-etching-tool. In this system, 8” (200 mm) wafers can be processed according to the specifications below.
The system has to include the following modules:
— an automation module for wafer handling,
— a silicon wet-etching-chamber with an appropriable spin etch process (see specification document),
— a spin-rinse-dry-chamber,
— a measurement station for determination of wafer thickness or silicon film thickness pre and post etching (see …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Veeco GmbH
2019-08-23ICP-ASE Anlage (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe)
Es wird eine Anlage zum reaktiven Tiefenätzen von Silizium benötigt. Es sollen Silizium-Wafer mit bis zu 200 mm Durchmesser und einer Dicke von bis zu 5 mm geätzt werden (Standard ist 125 mm mit 600 μm Dicke).
Benötigt wird das funktionsfähige Gerät inklusive aller zum Betrieb notwendigen Komponenten wie z. B. Vakuumpumpen, Steuerung inklusive Benutzerinterface, elektrisches Rack, Gasbox, Chiller etc. Die Abgasbehandlung (Trockenbettabsorber) ist nicht Bestandteil der Ausschreibung. Das Gerät muss über …
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2019-08-15PVD-Abscheideanlage für Nanomaterialien (Technische Universität Chemnitz)
Beim Beschaffungsgegenstand handelt es sich um eine UHV-Sputteranlage, welche speziell für die Nanotechnologien konzipiert ist. Die Anlage verfügt über mehrere Sputterkathoden in konfokaler Anordnung sowie einen beheizbaren Wafertisch und dient der Abscheidung sehr dünner Mehrkomponentenschichten mit spezieller Stöchiometrie und Kristallinität sowie komplexen Multilagensystemen. Ihr Haupteinsatz soll im Bereich der spintronischen Schichtsysteme, der memristiven Bauelemente sowie der NEMS erfolgen. Die …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Singulus Technologies AG
2019-08-12Automatisierte Hotmelt-Beschichtung (Sächsisches Textilforschungsinstitut e. V.)
Mit der automatisierten Hotmeltbeschichtungsanlage soll eine Rückenbeschichtung auf ein textiles Substrat appliziert werden. Das Handling der Warenbahn ist automatisiert durchzuführen. Beginnend vom Wickler an der Webmaschine ist die Ware in Form einer Rolle automatisiert zu entnehmen, zu trennen und der Beschichtungsanlage vorzulegen. Die auf dem Warenbaum befindliche Warenbahn ist mit dem in der Anlage geführtem Vorläufer zu fügen. Die Beschichtung soll mit einer Breitschlitzdüse aufgetragen werden. …
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