Beschaffungen: Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke (seite 63)
2013-06-10ZLP-GroFi Tape Laying Einheit für Fiber Placement-Anlage (Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e. V.)
Tape Laying Einheit für die GroFi-Anlage
- Bereitstellung einer Verfahrplattform ggf. inklusive Roboter und dazugehöriger Siemens Sinumerik 840D-sl Steuerung seitens des DLR
- Lieferung eines Roboters mit Nutzlast > 450kg integriert in Siemens Sinumerik 840D-sl Steuerung
- Lieferung einer Legeeinheit zur automatisierten Ablage von 300mm breiten Tape-Materialien aus CFK und Blitzschutzmaterial (ECF)
- die Legeeinheit soll durch konstruktive Maßnahmen ebenfalls eine Ablage von 150mm, 100mm und 50mm breiten …
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2013-06-10Hauptkläranlage Fürth - Neubau von Nachklärbecken - Bauabschnitt 10 – Maschinentechnik (MT) - Räumereinrichtung (Stadt Fürth)
Der Umfang des Bauabschnittes 10 umfasst im Wesentlichen die Ausrüstung folgender Anlagenteile:
-Räumereinrichtung (Bodenschlammräumer u. Schwimmschlammräumer) für Rundbecken (Nutzinhalt = 11450m³; lichter Beckendurchmesser=54,00m;Durchmesser Mittelbauwerk=9,10m; Randtiefe=4.40m; Tiefe im 1/3Punkt=5,00m): Rundräumer, Schwimmschlammräumung sowie Zulaufeinrichtungen für die Nachklärbecken 1,2 und 3.
-Schwimmschlammräumeinrichtung Verteilbauwerk
-Ein-und Ablaufeinrichtung Rundbecken
-Rohrleitungssysteme: …
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2013-05-29Wafer Probing System (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Um automatische Parameter- und Charakterisierungs-Messungen an
optoelektronischen CMOS-Sensoren und -Bauelementen auf Wafer-Ebene
durchzuführen, benötigt Fraunhofer IMS ein neues oder überholtes
Waferprober-System mit LED-Illuminator. Typischerweise sind die zu messenden
Sensoren und Bauelemente („devices under test”, DUTs) lichtempfindliche
Strukturen, Bauelemente oder Pixel, die in Matrizen („Arrays“) oder Zeilen
von unterschiedlicher Größe und/oder Anzahl angeordnet sind.
Auch CMOS-Bildsensoren müssen …
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2013-05-24Händlerbedarfe / Industriebedarfe (HPA Hamburg Port Authority AöR)
Inhalt der Ausschreibung
Um die zukünftigen Bedarfe der HPA an Industriebedarfen marktgerecht zu beschaffen, werden leistungsstarke Partner gesucht. Mit diesen Partnern werden Rahmenvereinbarungen nach SektVO abgeschlossen. Die Leistungen können gesamt oder losweise vergeben werden. Für die zukünftigen Bedarfe wird/werden mit Hilfe dieser Ausschreibung ein/mehrere strategische(r) Partner gesucht.
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2013-05-23Lieferung eines PEM Elektrolyseurs zur Wasserstoffversorgung (SolviCore GmbH & Co. KG)
Kauf eines Elektrolyseurs zur Herstellung von hochreinem Wasserstoff mit den folgenden Eigenschaften:
- Der Elektrolyseur basiert auf der Polymerelektrolytmembran-Technologie (PEM).
- Die Leistung des Elektrolyseurs beträgt 4 Nm³/h Wasserstoff. Das System sollte modular aufgebaut und auf 6 Nm³/h erweiterbar sein. Der Energieverbrauch pro Normkubikmeter Wasserstoff darf nicht über 7,5 kWh liegen. Das System muss in der Lage sein, den aktuellen Wasserstoffbedarf dynamisch (5 – 100 % des Leistungsbereichs) …
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2013-05-16Waferprober (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Die Anlage soll zur elektrischen Charakterisierung von Wafern verwendet werden. Sie soll die Möglichkeit bieten manuell oder halbautomatisch mit bis zu 8 Einzelnadeln (Manipulatoren) oder halbautomatisch mittels Probecard zu messen. Es sollen Wafer mit den Größen 100 mm, 150 mm, 200 mm und 300 mm vermessen werden, ohne große Umbauten vorzunehmen.
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2013-05-03GKW Ditzingen, Sanierung mechanische und biologische Stufe - T447_E_6.5_25.6.13 (Landeshauptstadt Stuttgart, Hochbauamt)
— Niederspannungshauptverteilung mit 2 Verteilungssektionen – Hauptverteilung für BHKW und Netzersatzanlage,
— Neubau Steuerverteilung Rechenanlage, Überschussschlammentwässerung, Biologie und E-Werkstatt,
— Neuinstallation Gebläsesteuerung mit Frequenzumrichter,
— Anpassung Steuerverteilung Hochwasserpumpwerk,
— Implementierung neuer SPS-Steuerungen für jeden verfahrenstechnischen Bereich,
— Anbindung an Prozessleittechnik,
— Installation eines neuen Automatisierungsnetzwerkes über LWL als …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:Heldele GmbH NL Stuttgart
2013-05-02Nass-Spinnmaschine (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Maschinentyp: Nassspinnanlage
Spinnstellen: 1
Titerbereich: ca.50dtex - 1000tex
Geschwindigkeitsbereich: 2-150 m/min (ein Geschwindigkeitsbereich)
Das prinzipielle und hochflexible Konzept einer vorhandenen Spinnmaschine der Fa. Barmag soll beibehalten werden, d.h. eine Nass-Spinnmaschine mit Einzelantrieben welche frei positionierbar sind, mit einer zentralen Steuerung und Eingriffsmöglichkeit an jedem Antrieb. Beibehalten werden soll ebenfalls die Heizung der Spinnbäder und Trocknergaletten auf …
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2013-04-26Fertigung eines Polymer Vapor Phase Deposition (PVPD) - Moduls (Aixtron SE)
Herstellen eines PVPD (Polymer Vapor Phase Deposition, Polymer Dampfphasenabscheidung) Moduls
1. PVPD (Polymer Vapor Phase Deposition, Polymer Dampfphasenabscheidung)
Revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung von polymerbasierten Dünnschichten
Basierend auf mehr als 20 Jahre Erfahrung mit Gasphasendepositionstechnologien hat AIXTRON eine Technologie zur Abscheidung von organischen Materialien mit höchster Produktivität bei geringen Betriebskosten entwickelt. Mit unseren führenden …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:VDL ETG Research bv
2013-04-26Fertigung eines Organic Vapor Phase Deposition (OVPD) - Process Moduls (Aixtron SE)
Herstellen eines OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung) Moduls:
1. OVPD (Organic Vapor Phase Deposition, Organische Dampfphasenabscheidung)
Revolutionäre Depositionstechnologie für die Abscheidung organischer Halbleitermaterialien.
Basierend auf mehr als 20 Jahre Erfahrung mit Gasphasendepositionstechnologien hat AIXTRON eine Technologie zur Abscheidung von organischen Materialien mit höchster Produktivität bei geringen Betriebskosten entwickelt. Mit unseren führenden …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:VDL ETG Research bv
2013-04-22Hochtemperatur-Vakuumofen (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Hochtemperatur-Vakuumofen bis 2 000 °C für Labor- und Entwicklungsaufgaben mit hoher Variabilität;
Ofennutzvolumen : ~ 10 - 15 Liter;
Endvakuum im kalten, sauberen Ofen: 1 x 10-6 mbar;
Nenntemperatur : 2 200°C;
Arbeitstemperatur : 2 000°C.
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2013-04-18GC/MS/MS mit Probenaufbereitungsroboter (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
Gaschromatograph mit gekoppeltem Triple-Quadrupol-Massenspektrometer und einer Robotikeinheit zur Probenvorbereitung und Probenaufgabe. Die Probenvorbereitung bedarf diverser Einzelschritte wie beispielsweise die Zugabe von Lösungen, die Erstellung von Verdünnungsreihen, das Temperieren von Proben, die Extraktion über diverse Säulenmatrices, die Trennung von Lösemittelphasen mittels Zentrifugation, das Durchmischen von Proben und die Volumenreduktion. Die Probenaufgabe soll durch Analyse diverser …
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2013-04-12Rahmenvereinbarung zur Lieferung von Wasserspendern mit integriertem Unterschrank (AOK PLUS - Die Gesundheitskasse für Sachsen und Thüringen)
Gegenstand des vorliegenden offenen Verfahrens ist die Lieferung von 92 Wasserspendern mit integriertem Unterschrank für Filialen der AOK PLUS – Die Gesundheitskasse für Sachsen und Thüringen. Die Lieferung umfasst die Kosten für Anlieferung, die Installation an den vorhandenen Wasseranschluss einschließlich Festwasserfiltersystem inklusive Filterkopf und Druckminderer, die Inbetriebnahme sowie Einweisung des Personals. Die angegebene Stückzahl dient lediglich der Preiskalkulation. Diese kann auch …
Ansicht der Beschaffung » Erwähnte Lieferanten:aQto GmbH
2013-04-11Gerät zur Herstellung von metallischen Mikrostrukturen auf Halbleitersubstraten mittels elektrochemischer Abscheidung (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Das zu konzipierende Gerät dient im konkreten Fall zur Herstellung von
metallischen Mikrostrukturen auf einem zuvor fotostrukturierten
Halbleitersubstrat. Dem Verfahren liegt die am Fraunhofer-IZM entwickelte
und etablierte Dünnfilmtechnologie zugrunde, von der hier fünf Prozesse in
der nachstehenden Ablauffolge relevant sind:
- die Benetzung des belackten Substrates mit DI-Wasser,
- die Konditionierung der Substratmetallisierung in Mikroätzlösungen,
- die galvanische Abscheidung der Metallstrukturen,
- …
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2013-04-04Pulsed Laser Depositon (PLD) Anlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Synthese von funktionellen dünnen Schichten bis 2 µm, speziell auch fernab vom thermodynamischen Gleichgewicht, wird eine flexible Laserpulsbedampfungs (Pulsed Laser Deposition, PLD) - Anlage für physikalische Abscheideprozesse mittels vollständig ionisierter Beschichtungsplasmen bei hochenergetischer Anregung benötigt.
Die Anlage besteht aus folgenden Komponenten:
— PLD-Kammer, wassergekühlt
— Pumpensystem
— Substrathalter, Substratgröße bis 1“, heizbar bis …
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2013-03-283-D Positioniersystem (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
3D-Positioniersystem:
- Anbringung von zwei Kranbahnen quer zu den Hallenbindern.
- Der Gitterträger (Brückenkonstruktion) wird in N-S-Richtung verfahren.
- Der Fahrwagen läuft in O-W-Richtung.
- Die Energiezufuhr wird über Stromschienen bzw. Kabelketten ausgeführt.
- Die Positionierung der X- und Y-Achsen wird mittels Barcodesystem realisiert.
- Der Antrieb erfolgt über Reibradantriebe.
- Die Z-Achse wird als Teleskop-System mit mehreren Gliedern und Kugellagerführung ausgeführt.
- Das Ausfahren des …
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2013-03-19Vakuum CVD Anlage (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Zur Bearbeitung von verschiedenen Entwicklungsprojekten soll eine Vakuum CVD zur Abscheidung von Silizium bzw. Silizium-Oxidschichten beschafft werden. Die Schichtabscheidung sollte einerseits mit einer Plasmaanregung (Plasma CVD) and andererseits über das geheizte Substrat (thermische CVD) erfolgen. Ein Anlagenkonzept als sogenannte Batchanlage (ohne Substrateinschleusung) ist ausreichend. Die minimalen Substratabmessungen betragen 200 mm x 300 mm bei einer maximalen Substratdicke bis 10 mm. Die …
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