2023-04-17PEALE-Prozesskit für RIE-Ätzanlage SI 500 (Friedrich-Schiller-Universität Jena)
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt die Beschaffung eines PEALE-Prozesskits für eine bestehende RIE-Ätzanlage SI 500 der Firma Sentech. Diese Anlage wird für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien genutzt. Durch die Erweiterung der Anlage wird die Durchführung von PEALE (Plasma Enhanced Atomic Layer Etching) Prozessen möglich.
Die erweiterte Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit chlorhaltigen …
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2021-08-19Spektroskopisches Ellipsometer (IHP GmbH - Leibniz-Institut für Innovative Mikroelektronik)
Spektroskopisches Ellipsometer
Spektralbereich 190 nm - 3500 nm mit vorzugsweise Si CCD und InAs Detektoren
Automatischer Pyramidengoniometer mindestens im Bereich von 20Grad - 100Grad, mit minimaler Schrittweite von 0.002Grad
Automatischer 200 mm X-Y-Mappingtisch mit einer Genauigkeit < 5 Müm
Automatische Probenausrichtung in Höhe und Neigung
PC mit Flachbildschirm inklusive Software zur Ansteuerung
Hochstabilisierter Kompensator für den UV-VIS- und NIR-Spektralbereich
Variabler Strahldurchmesser < 4 …
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2020-03-04Weitbereichsspektralellipsometrie-System für Analyseaufgaben (TU Ilmenau SG Beschaffung)
Lieferung und Inbetriebnahme eines spektroskopischen Weitbereichsellipsometriesystems bestehend aus einem UV-Vis-NIR- und einem NIR-MIR-Gerät mit einer spektralen Gesamtbreite von 200 nm bis mindestens 25 μm zur Bestimmung der Schichtdicken bei Mehrfachschichtsystemen, der optischen (und elektronischen) Eigenschaften von Schichten und Festkörpern sowie struktureller Eigenschaften von regelmäßigen geometrischen Strukturen. Das UV-Vis-NIR-
Ellipsometermodul muss zur Bestimmung der vollen 4 x 4 …
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2018-06-14Los 2 - Fluor-Chargenätzer (Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.)
Los 2 – Fluor-Chargenätzer ist die zweite von 4 Ausschreibungen des Forschungsprojektes „Innovative optische Gesundheitstechnologien basierend auf hocheffizienten und reproduzierbaren Mikrofluidik-Chips (OptoMikro)“.
Es soll eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikrostrukturen für Chargenprozesse angeschafft werden.
Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen und Sauerstoff bzw. Gemischen davon ätzen lassen.
— geplantes …
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2018-02-27Trockenätzer (Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe)
Trockenätzer:
Die gesuchte Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in eine dielektrische Schicht, die auf einem Halbleiterwafer deponiert wurde, übertragen. Hier wird als gängiges Verfahren das reaktive Ionenätzen gefordert. Um eine Kontinuität der gegenwärtigen Prozessierung zu gewährleisten, soll das Ätzen mit einer ICP-Anlage und den Gasen CHF3, CF4, H2 und O2 durchgeführt werden. Geätzt werden sollen die Materialien SiNx und SiOx in einem Multiwafer Betrieb 3 x 3“. Die Wafer sollen …
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