2021-06-29Kombinierte ALD-PVD/CVD-Beschichtungsanlage als Clustertool (Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V.)
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Beschichtungsanlage für die Abscheidung von metallischen sowie dielektrischen und nitridischen Schichten aus.
Die ausgeschriebene Anlage soll zur Schichtabscheidung von ein- und mehrlagigen Funktionsmaterialien mit Schichtdicken von 1 nm bis 5 μm eingesetzt werden, welche ohne Vakuumunterbrechung insitu hergestellt werden können.
Als Prozesse müssen in dieser Anlage ALD-Verfahren (Atomlagenabscheidung, auch plasmagestützt als PE-ALD) …
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2020-08-20Plasmaätzanlage für Fluorchemie (Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V.)
— Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Plasmaätzanlage für die Übertragung von Mikro- und Nanostrukturen mittels RIE-Verfahren in diverse Materialien aus.
— Die anzuschaffende Plasmaätzanlage soll zum Ätzen von Materialien eingesetzt werden, welche sich mit fluorhaltigen Gasen ätzen lassen.
— Es sind mit dieser Anlage Strukturübertragungen bis in den tiefen Submikrometerbereich auszuführen und es soll eine Homogenität der Prozesse von ca. 5 % über einer Fläche von 150 mm …
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2015-04-01ICP-RIE Ätzanlage für Dielektrika (Fraunhofer Gesellschaft e. V.)
ICP-RIE Ätzanlage für Dielektrika
- ICP-RIE Plasma-Ätzanlage zur Strukturierung von Dielektrika und III/V-Halbleitern.
- ICP-Quelle: max. Leistung HF-Generator: 1200 W (13,56 MHz).
Substratelektrode: max. Leistung HF-Generator: 600 W (13,56 MHz).
Sehr gutes Zündverhalten der Quelle und stabiles Plasma auch bei geringen Generatorleistungen und niedrigen Arbeitsdrücken (≤ 0,4 Pa).
- Elektrode vorbereitet für Klemmung von Wafern mit 4“-Durchmesser. Helium-Rückseitenkühlung für guten thermischen Kontakt …
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2014-04-23Ätzanlage (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e. V.)
Die Ausschreibung zielt auf die Beschaffung eines reaktiven Ionen Ätzers mit induktiv eingekoppeltem Plasma (ICP-RIE), zur anisotropen Ätzung von Halblautersubstraten, insbesondere Silizium. Zum Leistungsumfang gehören Lieferung, Installation, Inbetriebnahme, Einweisung, 24 Monate Gewährleistung sowie kostenlose Software-Updates innerhalb der ersten 24 Monate nach Inbetriebnahme. Die Ätzanlage muss folgende Mindestanforderungen erfüllen:
— CE Zertifizierung,
— Strukturierung von SI Nanostrukturen,
— …
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