2022-08-11Cryogen-free Dilution Refrigerator (Technische Universität München, TUM Zentrum für QuantumEngineering)
This call for tenders is for the procurement of a cryogen-free dilution refrigerator for scientific measurements at milli-Kelvin temperatures. The instrument must include a cold loading system that allows for swift sample exchange without the necessity to warm up the entire instrument, as well as a 3D vector magnet capable of producing magnetic fields of 9T-1T-1T. Experimental wiring including DC wiring, RF wiring and optical fibers must also be part of the offer.
The system must be a turn-key solution …
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2022-06-10WDH - mk-Kühler (Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.)
Das Vergabeverfahren "01.22.O.00.wdh / WDH - mk-Kühler" wurde am 23.05.2022 über das DTVP aufgehoben, da kein Angebot eingegangen ist, welches den Bedingungen entsprochen hat. Das Vergabeverfahren wird als Ausschreibung "01.22.O.00.wdh / WDH - mk-Kühler" wiederholt.
Die Ausschreibung "01.22.O.00.wdh / WDH - mk- Kühler " stellt eine Ausschreibung des Forschungsprojektes "Quantum computer in the solid state (QSolid) - Teilevorhaben: Technologieentwicklung und Realisierung supraleitender Hardware für …
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2022-04-08Hochleistungs-ICP-Ätzanlage (Universität Paderborn)
Die ICP-Ätzanlage stellt das Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur dar und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Eine Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 2"), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die verwendeten optische Bauelemente basieren auf Wellenleiterstrukturen, die eine extrem hohe Anforderung an die Strukturhomogenität stellen. Es sollen Rippenwellenleiter über eine Länge von mehreren Millimetern …
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2021-10-12Hochauflösendes Rasterkraftmikroskop für Fest/Flüssig-Grenzflächen (Lehrstuhl für Katalytische Grenzflächenforschung)
Die Ausschreibung betrifft die Beschaffung eines
hochauflösenden Rasterkraftmikroskops für In-Situ-Untersuchungen an katalytisch und elektrokata-lytisch aktiven Fest/Flüssig-Grenzflächen.
Da insbesondere topologische Untersuchungen mit atomarer Auflösung an der (dynamischen / elektrifizierten) Flüssig/Fest-Grenz¬fläche von leitenden und nichtleitenden Trägern eine zentrale Rolle spielen werden, ergeben sich eine Reihe spezifischer Anforderungen an das Gerät: Untersu-chungen sollen in verschiedensten …
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2019-06-05System für reaktives Ionenätzen (Helmholtz-Zentrum Geesthacht)
System zum Ionenätzen (RIE) mit Plasmaquelle
Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort) zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.
Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20 Jahre gefordert.
Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät …
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2019-01-18Lieferung, Installation und Inbetriebnahmeeiner ICPECVD-Anlage (Forschungsverbund Berlin e. V.)
Zur Abscheidung dünner dielektrischer Schichten soll im Rahmen eines BMBF-Projekts eine moderne und flexible Beschichtungsanlage beschafft werden zur Herstellung von SiNx- und SiOy- Dielektrika.
Mittelpunkt der Beschaffung ist eine Plasma CVD Anlage mit dem Ziel, qualitativ hochwertige SiNx Dielektrika mit Durchbruchfeldstärken von > 8 MV/cm abzuscheiden. (entspricht ca. 80 V Durchbruchspannung bei einer Dielektrikumsdicke von 100 nm).
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2018-02-14Lieferung einer Messstation (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.)
Es wird eine Messstation bestehend aus kryogenfreiem Entmischungskryostaten mit Magneten und Messelektronik benötigt, mit der Proben bei extrem tiefen Temperaturen unter dem Einfluss von magnetischen Feldern elektrisch untersucht werden können. Die Proben sollen dabei mechanisch verformt werden, so dass unter anderem auch Materialien für flexible Elektronik untersucht werden können. Zum Verständnis der elektronischen Eigenschaften auf atomarer Ebene wird dabei die Apparatur mit einem Aufbau verbunden, …
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2017-03-09Cluster-Trockenätzanlage (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard beabsichtigt eine Neuanschaffung einer Cluster-Trockenätzanlage für die Strukturierung von Silizium und dielektrischen Schichten. Die Anlage muss für die Bearbeitung von 100 mm- und 150 mm-Wafern geeignet sein und soll dem 200 mm SEMI MESC Standard entsprechen. Die Anlage soll aus zwei ICP-RIE Kammern bestehen und jeweils über eine eigene Kassettenstation beladen werden. Die Anlage ist für einen 3-Schichtbetrieb auszulegen und soll für den Betrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) …
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2017-03-09PECVD-Anlage (Hahn-Schickard-Gesellschaft für angewandte Forschung e. V.)
Hahn-Schickard beabsichtigt die Neuanschaffung einer Parallelplattenreaktor-PECVD-Anlage für das Beschichten von hauptsächlich 100 mm- und 150 mm-Wafern als Ersatz bzw. technologische Erweiterung vorhandener Gerätschaften. Die Anlage muss das Beschichten mit unterscheidlichen PECVD-Schichten wie SiO2 und Si3N4 ermöglichen und ist für einen 3-Schichtbetrieb in einem Reinraum der Klasse 10 (ISO 4) auszulegen.
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2013-12-30Lieferung und Installation eines Rastersondenmikroskops mit hoher (atomarer) Auflösung (Technische Universität Dresden)
Lieferung, Installation und Inbetriebnahme (inklusive Schulung) eines Rastersondenmikroskops (engl.: scanning probe microscope = SPM) zur hoch aufgelösten Bestimmung von strukturellen sowie von spezifischen biologischen, chemischen und physikalischen Eigenschaften (Materialkontrast) von Oberflächen und Oberflächenbeschichtungen. Neben statischen Messungen soll das Gerät die zeitaufgelöste Untersuchung von kinetischen Oberflächenprozessen sowie von morphologischen Veränderungen von immobilisierten …
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2013-12-17Kauf einer Ätzanlage (NMI Naturwissenschaftliches und Medizinisches Institut an der Universität Tübingen)
Kauf einer Ätzanlage zur Oberflächenätzung und Stukturierung für Mikrostrukturen, die in der Sensorik und Implantologie eingesetzt werden kann.
Folgende Eigenschaften werden erwartet:
— Parallelplattenreaktor zum Ätzen,
— Reaktives Ionen Ätzen,
— RIE/PE-Umschaltung (Umpolung der Elektroden),
— Durchmesser der Elektrode (Substratteller) >= 450 mm,
— Elektrode beheizbar und kühlbar im Temperaturbereich von -10 °C… + 80 °C.
— Folgende Ätzprozesse müssen möglich sein:
SiN, SiO, SiON, Si, SiC, Polyimid bis 10 …
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2013-08-26Plasmaätzanlage 785-64/13 (Universität Leipzig)
Gefordert ist eine reaktivgasbeständige FuE-Plasmaätzanlage zum reaktiven Ionenätzen (RIE) mit induktiv gekoppelter Plasmaquelle (ICP) mit Direktbeladung (open load) zur Bearbeitung von Substraten unterschiedlicher Größen (Standardgröße 10 x 10 mm² und kleinere Bruchstücke aber auch Substratgrößen bis zu 200 mm rund oder 6"" quadratisch).
Die Anlage muss mit einem per Thermostat aktiv gekühlten Probenhalter ausgestattet sein. Dabei erfolgt die thermische Ankopplung an das Susbtrat per Heliumpolster …
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2012-02-02Kombinierte PECVD-Plasmaätzanlage für den Laborbereich (Fraunhofer Gesellschaft e.V.)
Eine kombinierte Beschichtungs- und Ätzanlage bestehend aus zwei unabhängig bedienbaren Modulen, einem PECVD Modul und einem Plasmaätzmodul mit ICP Quelle. Die Anlage soll zu Forschungszwecken eingesetzt werden und Substrate bis 200 mm Durchmesser bearbeiten können. Dabei steht nicht ein produktionsrelevanter Waferdurchsatz im Vordergrund sondern vielmehr die flexible Handhabung der Prozessparameter und Reproduzierbarkeit. Mit dem PECVD Modul sollen insbesondere Silizium-Nanodrähte gewachsen werden bzw. …
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